[发明专利]基板检测装置和方法在审

专利信息
申请号: 201810168066.X 申请日: 2018-02-28
公开(公告)号: CN108267450A 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 赵婷婷 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84;G02F1/13
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基板检测装置和方法,属于显示技术领域。基板检测装置包括:基台和双折射结构;基台包括光源和承载台,承载台用于放置待检测基板,光源用于从待检测基板靠近承载台的一侧照射待检测基板;双折射结构位于待检测基板远离承载台的一侧,且光源与承载台位于双折射结构的同一侧。本发明通过双折射结构层增大光线的相位差,使一些相位差较小的光线也能发生干涉,增加了双折射结构层出光侧不同区域的亮度差异,使得基板上的不均匀更容易显现出。解决了相关技术中一些待检测基板上的Mura现象较难观察到,使得发生漏检的可能性较大的问题。达到了避免漏检的效果。
搜索关键词: 基板 承载台 双折射 基板检测装置 检测 光源 相位差 基台 漏检 亮度差异 不均匀 结构层 照射 干涉 观察
【主权项】:
1.一种基板检测装置,其特征在于,所述基板检测装置包括:基台和双折射结构;所述基台包括光源和承载台,所述承载台用于放置待检测基板,所述光源用于从所述待检测基板靠近所述承载台的一侧照射所述待检测基板;所述双折射结构位于所述待检测基板远离所述承载台的一侧,且所述光源与所述承载台位于所述双折射结构的同一侧。
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