[发明专利]基板检测装置和方法在审

专利信息
申请号: 201810168066.X 申请日: 2018-02-28
公开(公告)号: CN108267450A 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 赵婷婷 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84;G02F1/13
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基板 承载台 双折射 基板检测装置 检测 光源 相位差 基台 漏检 亮度差异 不均匀 结构层 照射 干涉 观察
【权利要求书】:

1.一种基板检测装置,其特征在于,所述基板检测装置包括:

基台和双折射结构;

所述基台包括光源和承载台,所述承载台用于放置待检测基板,所述光源用于从所述待检测基板靠近所述承载台的一侧照射所述待检测基板;

所述双折射结构位于所述待检测基板远离所述承载台的一侧,且所述光源与所述承载台位于所述双折射结构的同一侧。

2.根据权利要求1所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构包括液晶层和设置在所述液晶层外部的电场组件,

所述电场组件用于控制所述液晶层的双折射率。

3.根据权利要求2所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构还包括温度调节组件,

所述温度调节组件用于调节所述液晶层的温度。

4.根据权利要求3所述的基板检测装置,其特征在于,所述温度调节组件包括透明的石墨烯加热膜,所述石墨烯加热膜贴覆在所述液晶层上。

5.根据权利要求2所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构还包括设置在所述液晶层远离所述承载台一侧的彩膜层。

6.根据权利要求2所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构还包括设置在所述液晶层远离所述承载台一侧的第一偏光片,

所述承载台上设置有第二偏光片,所述光源用于透过所述第二偏光片照射所述待检测基板,所述第一偏光片和所述第二偏光片用于配合所述液晶层以调整所述双折射结构的透过率。

7.根据权利要求6所述的基板检测装置,其特征在于,所述光源为面光源,

所述面光源设置在所述承载台上;

所述第二偏光片设置在所述面光源的出光侧。

8.根据权利要求1至7任一所述的基板检测装置,其特征在于,所述基板检测装置还包括图像采集组件,

所述图像采集组件设置在所述双折射结构远离所述基台的一侧。

9.一种基板检测方法,其特征在于,用于基板检测装置,所述基板检测装置包括基台和双折射结构,所述基台包括光源和承载台,所述承载台用于放置待检测基板,所述光源用于从所述待检测基板靠近所述承载台的一侧照射所述待检测基板,所述双折射结构位于所述待检测基板远离所述承载台的一侧,且所述光源与所述承载台位于所述双折射结构的同一侧,所述方法包括:

将所述待检测基板放置在所述承载台上;

启动所述光源;

根据所述双折射结构远离所述承载台的一侧所显示的图像判断所述待检测基板是否合格。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述双折射结构包括液晶层和电场组件,

所述根据所述双折射结构远离所述承载台的一侧所显示的图像判断所述待检测基板是否合格,包括:

通过所述电场组件调节所述液晶层的双折射率;

根据所述双折射结构远离所述承载台的一侧在不同双折射率时所显示的图像,判断所述待检测基板是否合格。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述双折射结构还包括温度调节组件,

所述通过所述电场组件调节所述液晶层的双折射率,包括:

通过所述电场组件和所述温度调节组件调节所述液晶层的双折射率。

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