[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板有效

专利信息
申请号: 201810058977.7 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108198825B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 关峰;任庆荣;强朝辉;王治 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板,用以简化阵列基板制备工艺流程,减少光罩次数,降低生产成本。本申请实施例提供的一种阵列基板,包括:衬底以及设置在所述衬底之上的薄膜晶体管;所述薄膜晶体管包括:在所述衬底上依次设置的源极和漏极、与所述源极和所述漏极连接的有源层、第一栅绝缘层、栅极,所述薄膜晶体管还包括:设置在所述有源层和所述衬底之间、且设置在所述源极和所述漏极之间的遮光层;所述遮光层包括与所述源极和所述漏极材料相同的金属层,以及覆盖所述金属层与所述有源层相邻表面的绝缘层。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,该阵列基板包括:衬底以及设置在所述衬底之上的薄膜晶体管;所述薄膜晶体管包括:在所述衬底上依次设置的源极和漏极、与所述源极和所述漏极连接的有源层、第一栅绝缘层、栅极,所述薄膜晶体管还包括:设置在所述有源层和所述衬底之间、且设置在所述源极和所述漏极之间的遮光层;所述遮光层包括与所述源极和所述漏极材料相同的金属层,以及覆盖所述金属层与所述有源层相邻表面的绝缘层。
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