[发明专利]测试图形的选取方法和装置、构建光刻模型的方法和装置有效
| 申请号： | 201810054861.6 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN108153995B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 赵利俊;韦亚一;董立松;张利斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F30/39 | 分类号： | G06F30/39;G06F30/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵秀芹;王宝筠 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种测试图形的选取方法和装置，该选取方法包括根据设计规则、实际电路版图和/或随机版图设计初始测试图形；根据简化模型对初始测试图形进行光学仿真，得到初始测试图形在预设参数取值范围内的分布；根据初始测试图形在预设参数取值范围内的分布从初始测试图形中选取关键测试图形，关键测试图形用于构建光刻模型中的参数校准。利用该选取方法选出的测试图形用于构建光刻模型，能够提高光刻模型的建模效率以及光刻模型的准确度。此外，本申请还尤其涉及一种构建光刻模型的方法和装置。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 图形 选取 方法 装置 构建 光刻 模型 | ||
【主权项】：
一种测试图形的选取方法，其特征在于，包括：根据设计规则、实际电路版图和/或随机版图设计初始测试图形；根据简化模型对所述初始测试图形进行光学仿真，得到所述初始测试图形在预设参数取值范围内的分布；根据所述初始测试图形在预设参数取值范围内的分布从所述初始测试图形中选取关键测试图形，所述关键测试图形用于构建光刻模型中的参数校准。
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