[发明专利]组合物及二氧化硅质膜的制造方法有效
申请号: | 201810007780.0 | 申请日: | 2018-01-04 |
公开(公告)号: | CN108300305B | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 藤井恭;野田国宏;千坂博树;染谷和也;三隅浩一;盐田大 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | C09D183/16 | 分类号: | C09D183/16;C09D7/63;C09D7/20;H01L21/316 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;唐峥 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法,所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。 |
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搜索关键词: | 组合 二氧化硅 质膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.组合物,其包含:(A)聚硅氮烷,和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物;
式(B)中,Ar为可以具有取代基的芳香族基团,Rb1为氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、或有机基团,Y为以下的式(B‑y)表示的咪唑环或氢原子,Z为以下的式(B‑y)表示的咪唑环或‑ORb3表示的基团,Y或Z中的任一者为所述咪唑环,当Y为所述咪唑环时,
为单键;当Z为所述咪唑环时,
为碳‑碳双键,Rb3为氢原子或有机基团,
式(B‑y)中,*表示与所述式(B)中的与Y或Z相邻的碳原子进行键合的化学键,Rb2各自独立地为氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团。
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C09 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
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