[发明专利]辐射敏感组合物以及图案化和金属化方法有效
| 申请号： | 201810000803.5 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN108267933B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 羽贺满;串田修学;贝沼邦雄;J·F·卡梅隆 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种图案化方法，包含：(i)在衬底上形成辐射敏感膜，其中所述辐射敏感膜包含：(a)树脂、(b)光酸产生剂、(c)第一猝灭剂和(d)第二猝灭剂；(ii)使所述辐射敏感膜图案式地曝光于活化辐射；和(iii)使所述辐射敏感膜与碱性显影液接触以形成抗蚀剂图案；其中所述树脂包含以下重复单元： |
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| 搜索关键词： | 辐射 敏感 组合 以及 图案 金属化 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案化方法，包含：(i)在衬底上形成辐射敏感膜，其中所述辐射敏感膜包含：(a)树脂、(b)光酸产生剂、(c)第一猝灭剂和(d)第二猝灭剂；(ii)使所述辐射敏感膜图案式地曝光于活化辐射；和(iii)使所述辐射敏感膜与碱性显影液接触以形成抗蚀剂图案；其中所述树脂包含以下重复单元：![]()
其中：R1选自氢原子、具有1到4个碳原子的烷基、氰基或三氟甲基；Z为提供酸不稳定部分的非氢取代基；n为40到90摩尔％；m为10到60摩尔％；并且按所述树脂的所有重复单元计，所述树脂中所述两个重复单元的总组合含量为80摩尔％或更大；并且所述第一猝灭剂选自苯并三唑或其衍生物。
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