[发明专利]配线修正装置及配线修正方法在审
| 申请号： | 201780083027.3 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN110168136A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 铃木良和;久住庸辅 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C16/48 | 分类号： | C23C16/48;C23C16/16;C23C16/56;G09F9/00;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/522;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 洪秀川;马运刚 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种配线修正装置，其照射由CVD用激光振荡器振荡产生的CVD用的激光，并在修正用基板的激光照射面使CVD用原料气体进行光分解，从而在激光照射面形成修正用金属配线，其特征在于，具有改性用激光振荡器，改性用激光振荡器使波长与CVD用的激光不同的改性用的激光产生振荡，而使修正用金属在熔融之后固化。 | ||
| 搜索关键词： | 激光振荡器 改性 配线 修正 激光照射面 修正装置 振荡 激光 激光产生 金属配线 原料气体 光分解 波长 基板 熔融 固化 照射 金属 | ||
【主权项】：
1.一种配线修正装置，该配线修正装置向表面暴露于CVD用原料气体中的修正用基板照射由CVD用激光振荡器振荡产生的CVD用激光并在所述修正用基板的激光照射面使CVD用原料气体进行光分解，使修正用金属选择性地堆积于所述激光照射面，从而形成修正用金属配线，所述配线修正装置的特征在于，具有改性用激光振荡器，所述改性用激光振荡器使波长与所述CVD用激光不同的、能够将所述修正用金属熔融的改性用激光产生振荡。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
