[发明专利]新型化合物、半导体材料、以及使用了其的膜以及半导体的制造方法有效
| 申请号: | 201780078579.5 | 申请日: | 2017-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN110088072B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
| 发明(设计)人: | 中杉茂正;柳田浩志;黑泽和则;关藤高志;滨祐介;松浦裕里子 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
| 主分类号: | C07C39/04 | 分类号: | C07C39/04;H10K85/20;H10K85/60 |
| 代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘卓然 |
| 地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明提供一种半导体材料和膜,其在溶剂中的溶解性高,并且具有高的填充性、耐热性以及/或者蚀刻耐受性。进一步提供使用了该半导体材料的半导体的制造方法。本发明提供一种新型化合物。提供了:一种由特定的芳香族烃环衍生物构成的半导体材料、以及使用了该半导体材料的膜以及半导体的制造方法。一种由特定的芳香族烃环衍生物构成的化合物。 | ||
| 搜索关键词: | 新型 化合物 半导体材料 以及 使用 半导体 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种由下述式(1)表示的化合物构成的半导体材料,[化学式i]X‑Y 式(1)式中,X是由下述式(2)表示的基团,[化学式ii]
A为‑OH、‑NH2或者‑SH,R1为氢、‑OH、‑NH2、‑SH、C1~10的直链烷基、或者C3~10的支化烷基、或者与苯基环进行结合的直接键,R1’为氢、‑OH、‑NH2、‑SH、C1~10的直链烷基、或者C3~10的支化烷基、或者与苯基环进行结合的直接键,R2为氢、‑OH、‑NH2、‑SH、C1~10的直链烷基、或者C3~10的支化烷基、或者与苯基环进行结合的直接键,R2’为氢、‑OH、‑NH2、‑SH、C1~10的直链烷基、或者C3~10的支化烷基、或者与苯基环进行结合的直接键,R3为氢、‑OH、‑NH2、‑SH、C1~10的直链烷基、或者C3~10的支化烷基、或者与苯基环进行结合的直接键,R3’为氢、‑OH、‑NH2、‑SH、C1~10的直链烷基、或者C3~10的支化烷基、或者与苯基环进行结合的直接键,n1为0、1或2,n2为0、1或2,n3为0、1或2,m为0、1、2或3,且Y是无取代或被一个或多个取代基取代的芳香族烃环基,该取代基选自‑OH、‑NH2、‑SH、C1~10的直链烷基、或者C3~10的支化烷基。
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