[发明专利]处理装置、具备该处理装置的镀敷装置、输送装置、以及处理方法

摘要

本发明抑制基板(被处理物)的挠曲而稳定地输送被处理物。本发明提供一种处理装置。该处理装置具有：输送部，在被处理物的平面相对于水平绕输送方向轴倾斜的状态下输送被处理物；以及处理部，对被处理物的平面执行研磨及清洗中的至少一个。输送部具有：驱动部，构成为与被处理物的端部物理地接触来对被处理物施加输送方向的力；第一伯努利吸盘，与被处理物的平面对置配置；以及第二伯努利吸盘，与和被处理物的上述端部相反一侧的端部的端面对置配置。

主权项

1.一种处理装置，具有：输送部，在被处理物的平面相对于水平绕输送方向轴倾斜的状态下输送所述被处理物；以及处理部，对所述被处理物的所述平面，执行研磨、清洗以及干燥中的至少一个，所述输送部具有：驱动部，构成为与所述被处理物的端部物理接触来对所述被处理物施加输送方向的力；第一伯努利吸盘，与所述被处理物的所述平面对置配置；以及第二伯努利吸盘，与和所述被处理物的所述端部相反侧的端部的端面对置配置。