[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法在审
申请号: | 201780055165.0 | 申请日: | 2017-06-02 |
公开(公告)号: | CN109690739A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 三上贵弘;藤贵洋;铃木祐辉;山口芳広 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本制钢所 |
主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268;B65G49/06;H01L21/20;H01L21/677 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 根据本发明一种实施方式的激光照射装置(1)具有:生成激光束的激光生成装置(14);使待由所述激光束照射的工件(16)浮起的浮起单元(10);以及对所述已浮起工件(16)进行传送的传送单元(11)。所述传送单元(11)在不与所述激光束的照射位置(15)交叠的位置处将所述工件(16)保持于其上的同时,对该工件(16)进行传送。采用本发明一种实施方式的激光照射装置(1)可减小激光束的不均匀照射。 | ||
搜索关键词: | 激光照射装置 激光束 传送单元 浮起 传送 半导体器件制造 激光生成装置 激光束照射 浮起单元 激光照射 照射位置 不均匀 位置处 减小 交叠 照射 | ||
【主权项】:
1.一种激光照射装置,其特征在于,包括:一激光生成装置,用于生成激光束;一浮起单元,用于使一工件浮起,所述工件用于被所述激光束照射;以及一传送单元,用于对浮起的所述工件进行传送,其中,所述传送单元在一平面视角下不与所述激光束的照射位置交叠的位置处,将所述工件保持于所述传送单元上的同时,对所述工件进行传送,所述浮起单元设有一旋转机构,所述旋转机构在对所述工件的一水平表面进行保持的同时,对所述工件进行旋转,以及所述激光照射装置在以所述传送单元传送所述工件并以所述激光束照射所述工件后,以所述旋转机构旋转所述工件并再次传送所述工件,以使得所述工件被所述激光束照射。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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