[发明专利]氧化物烧结体以及溅射靶有效
申请号: | 201780036417.5 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN109311756B | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 井上一吉;笘井重和;柴田雅敏;竹岛基浩 | 申请(专利权)人: | 出光兴产株式会社 |
主分类号: | C04B35/01 | 分类号: | C04B35/01;C23C14/34;H01B1/08;H01B5/14;H01L21/363;H01B13/00 |
代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 毛立群 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
一种氧化物烧结体,含有以In |
||
搜索关键词: | 氧化物 烧结 以及 溅射 | ||
【主权项】:
1.一种氧化物烧结体,其特征在于,含有以In2O3表示的方铁锰矿相以及以Y3In2Ga3O12表示的石榴石相。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于出光兴产株式会社,未经出光兴产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780036417.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。