[发明专利]氧化物烧结体以及溅射靶有效
| 申请号： | 201780036417.5 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN109311756B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 井上一吉;笘井重和;柴田雅敏;竹岛基浩 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C23C14/34;H01B1/08;H01B5/14;H01L21/363;H01B13/00 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化物 烧结 以及 溅射 | ||
1.一种氧化物烧结体，其特征在于，
含有以In2O3表示的方铁锰矿相以及以Y3In2Ga3O12表示的石榴石相，
In、Ga以及Y的原子比在以下范围内，
In/(In+Y+Ga)为0.60以上0.97以下，
Ga/(In+Y+Ga)为0.01以上0.20以下，
Y/(In+Y+Ga)为0.02以上0.20以下。
2.如权利要求1所述的氧化物烧结体，其特征在于，In、Ga以及Y的原子比在以下范围内，
In/(In+Y+Ga)为0.70以上0.96以下，
Ga/(In+Y+Ga)为0.02以上0.15以下，
Y/(In+Y+Ga)为0.02以上0.18以下。
3.如权利要求1所述的氧化物烧结体，其特征在于，In、Ga以及Y的原子比在以下范围内，
In/(In+Y+Ga)为0.75以上0.95以下，
Ga/(In+Y+Ga)为0.02以上0.12以下，
Y/(In+Y+Ga)为0.03以上0.16以下。
4.如权利要求1～3的任一项所述的氧化物烧结体，其特征在于，所述以In2O3表示的方铁锰矿相的最大峰强度相对于所述以Y3In2Ga3O12表示的石榴石相的最大峰强度的峰强度比为1～500。
5.如权利要求1～3的任一项所述的氧化物烧结体，其特征在于，所述以In2O3表示的方铁锰矿相的最大峰强度相对于所述以Y3In2Ga3O12表示的石榴石相的最大峰强度的峰强度比为5～300。
6.如权利要求1～3的任一项所述的氧化物烧结体，其特征在于，所述以In2O3表示的方铁锰矿相的最大峰强度相对于所述以Y3In2Ga3O12表示的石榴石相的最大峰强度的峰强度比为7～290。
7.如权利要求1～3的任一项所述的氧化物烧结体，其特征在于，还含有正四价的金属元素。
8.如权利要求7所述的氧化物烧结体，其特征在于，
所述正四价的金属元素固溶于所述以In2O3表示的方铁锰矿相或者所述以Y3In2Ga3O12表示的石榴石相。
9.如权利要求8所述的氧化物烧结体，其特征在于，
所述固溶为取代型固溶。
10.如权利要求7所述的氧化物烧结体，其特征在于，相对于氧化物烧结体中所有的金属元素，所述正四价的金属元素的含量为100～10000ppm的原子浓度。
11.如权利要求7所述的氧化物烧结体，其特征在于，相对于氧化物烧结体中所有的金属元素，所述正四价的金属元素的含量为500ppm以上8000ppm以下的原子浓度。
12.如权利要求7所述的氧化物烧结体，其特征在于，相对于氧化物烧结体中所有的金属元素，所述正四价的金属元素的含量为800ppm以上6000ppm以下的原子浓度。
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