[发明专利]研磨液、化学机械研磨方法有效
申请号: | 201780034712.7 | 申请日: | 2017-05-15 |
公开(公告)号: | CN109312213B | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 上村哲也 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;B24B37/00;C09G1/02;H01L21/304 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 薛海蛟 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题在于提供一种在使用于CMP的情况下在被研磨体上不易产生缺陷的研磨液及化学机械研磨方法。本发明的研磨液为使用于化学机械研磨中的研磨液,所述研磨液中,含有研磨粒及有机酸且Ca浓度为100质量ppt以下。 | ||
搜索关键词: | 研磨 化学 机械 方法 | ||
【主权项】:
1.一种研磨液,其为使用于化学机械研磨的研磨液,所述研磨液中,含有研磨粒及有机酸,且Ca浓度为100质量ppt以下。
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