[发明专利]镀膜机在审
申请号: | 201780017921.0 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN109314032A | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 维克多·贝利多·冈萨雷斯 | 申请(专利权)人: | 基恩科有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/34 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;赵赫 |
地址: | 英国默*** | 国省代码: | 英国;GB |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及在等离子体装置中电子发射和传输的产生和控制,用于增强包括磁控溅射的溅射、离子处理、热蒸镀和电子束蒸镀中的电离作用。所提及的装置结合阴极元件上的溅射增强电子发射,其中在阴极元件周围产生强电场。此外,该电场区域处于几乎为零的强度和/或磁镜特征的磁约束空间中。电子发射区域还将包括引导的磁场提取磁场路径,其可以是永久的或者在脉冲模式下产生。同时同时,本发明涉及反应过程和镀膜沉积离子轰击管理。本发明还可以涉及本装置在反馈控制系统中的使用;使用这些装置的制造工艺和方法。由本发明处理的材料和部件也是本发明的一部分。 | ||
搜索关键词: | 电子发射 阴极元件 溅射 等离子体装置 电子发射区域 反馈控制系统 电子束蒸镀 磁场路径 磁控溅射 电场区域 镀膜沉积 离子处理 离子轰击 脉冲模式 制造工艺 磁约束 镀膜机 强电场 热蒸镀 引导的 电离 磁镜 磁场 传输 管理 | ||
【主权项】:
1.一种镀膜机,包括:蒸汽供应部;热离子发射体,其位于邻近所述蒸汽供应部但与所述蒸汽供应部隔开;阳极,其位于热离子发射体的与所述蒸汽供应部相对的一侧;偏置装置,其在使用中适于使所述热离子发射体相对于所述阳极负偏置;和磁性装置,其在使用中适于产生磁场;其中所述磁场包括:所述热离子发射体周围的低磁场强度区域;和在所述蒸汽供应部和所述阳极之间延伸的磁场区域,使得在使用中,由所述热离子发射体发射的电子:与所述蒸汽供应部相互作用以使蒸汽从所述蒸汽供应部发射并且至少部分地使来自所述蒸汽供应部的蒸汽电离,从而形成至少部分电离的蒸汽通量;以及被吸引到所述阳极,从而形成朝向所述阳极的电子通量,所述电子通量至少部分地被限制在所述蒸汽供应部和所述阳极之间延伸的磁场区域内,并且其中:所述产生的至少部分受限的电子通量与所述至少部分电离的蒸汽通量相互作用以在朝向所述阳极的方向引导所述至少部分电离的蒸汽通量,并且优选地沿着对应于在所述蒸汽供应部和所述阳极之间延伸的磁场区域的路径引导所述至少部分电离的蒸汽通量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于基恩科有限公司,未经基恩科有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780017921.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:离子铣削装置
- 下一篇:由碳化钨块构成的等离子体设备用部件