[发明专利]氮化硼材料及其制备方法有效
申请号: | 201780016466.2 | 申请日: | 2017-01-09 |
公开(公告)号: | CN109196139B | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 郑颖杰;李红玲;曾绍康;张汉忠 | 申请(专利权)人: | 南洋理工大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/36;C01B6/11 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 刘培培;黄爱娇 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种制备氮化硼材料,例如氮化硼(BN)或碳氮化硼(BCN)的方法。该方法可以包括:提供衬底;以及使胺硼烷络合物升华到衬底上以获得氮化硼材料。氮化硼络合物包括,但不限于,环硼氮烷、氨基硼烷、三甲胺硼烷和三乙胺硼烷。此外,可以改变进行升华的温度以控制所形成的氮化硼材料的组成。此外,通过使用本方法,可以获得各种形态,即膜、纳米管和多孔泡沫。 | ||
搜索关键词: | 氮化 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制备氮化硼材料的方法,所述方法包括:a)提供衬底,以及b)使胺硼烷络合物升华到所述衬底上以获得氮化硼材料,其中,改变进行升华的温度以控制所形成的氮化硼材料的组成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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