[实用新型]一种改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管有效
申请号: | 201721251982.7 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN207775348U | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 张乐成;张召 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/34;H01L21/67 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 201200 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,所述石英外管的外表面从上到下设置有粗糙度、颜色、厚度其中一项或多项不同的涂层,所述涂层设置上部涂层、中部涂层和下部涂层。本实用新型是在石英外管的不同区域采用不同的处理方法。使得能够得到均一性更好的氮化硅薄膜。通过加设石英外管的外表面涂层,并改变外表面涂层的能对热辐射造成影响的厚度、颜色、粗糙度的三个参数,通过对三个参数的调整达到调整氮化硅薄膜均一性的目的。且外表面涂层的厚度、颜色、粗糙度三个参数能渐变或分区域的改变。 | ||
搜索关键词: | 石英外管 氮化硅薄膜 外表面涂层 粗糙度 本实用新型 膜厚均一性 均一性 炉管 从上到下 分区域 热辐射 渐变 | ||
【主权项】:
1.一种改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述石英外管的外表面从上到下设置有粗糙度、颜色、厚度其中一项或多项不同的涂层(1),所述涂层(1)设置上部涂层(11)、中部涂层(12)和下部涂层(13);所述石英外管设置为从上到下为厚度渐薄的涂层(1)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的