[实用新型]一种改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管有效
申请号: | 201721251982.7 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN207775348U | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 张乐成;张召 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/34;H01L21/67 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 201200 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石英外管 氮化硅薄膜 外表面涂层 粗糙度 本实用新型 膜厚均一性 均一性 炉管 从上到下 分区域 热辐射 渐变 | ||
1.一种改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述石英外管的外表面从上到下设置有粗糙度、颜色、厚度其中一项或多项不同的涂层(1),所述涂层(1)设置上部涂层(11)、中部涂层(12)和下部涂层(13);所述石英外管设置为从上到下为厚度渐薄的涂层(1)。
2.根据权利要求1所述的改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述涂层(1)从上到下的厚度不同;所述上部涂层(11)的厚度大于中部涂层(12)的厚度,所述中部涂层(12)的厚度大于下部涂层(13)的厚度。
3.根据权利要求1所述的改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述涂层(1)为从上到下颜色渐浅的涂层(1)。
4.根据权利要求3所述的改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述涂层(1)从上到下的颜色不同;所述上部涂层(11)为黑色,中部涂层(12)为灰色,下部涂层(13)为灰白色。
5.根据权利要求1所述的改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述涂层(1)为从上到下粗糙度渐小的涂层(1)。
6.根据权利要求1所述的改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述涂层(1)从上到下的粗糙度不同;所述上部涂层(11)为超粗磨砂涂层(1),中部涂层(12)为粗磨砂涂层(1),下部涂层(13)为细磨砂涂层(1)。
7.根据权利要求1所述的改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述涂层(1)从上到下的厚度渐薄;所述涂层(1)从上到下的颜色渐浅;所述涂层(1)从上到下的粗糙度渐小。
8.根据权利要求1所述的改善氮化硅薄膜膜厚均一性的炉管石英外管,其特征在于:所述涂层(1)从上到下的厚度、颜色和粗糙度均不同;所述上部涂层(11)为黑色超粗磨砂涂层(1),中部涂层(12)为灰色粗磨砂涂层(1),下部涂层(13)为灰白色细磨砂涂层(1);所述上部涂层(11)的厚度大于中部涂层(12)的厚度,所述中部涂层(12)的厚度大于下部涂层(13)的厚度。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的