[实用新型]一种激光诱导气相沉积系统的光气分离装置有效
申请号: | 201720777548.6 | 申请日: | 2017-06-29 |
公开(公告)号: | CN207002840U | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 刘世文;刘志奇 | 申请(专利权)人: | 深圳市森美协尔科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种激光诱导气相沉积系统的光气分离装置,包括激光器、聚焦物镜、反应腔体和平衡调节阀。由于该装置将保护气体入/出口、工作气体入口和负压抽取口分别设置于反应腔体的上、中、底部,并利用平衡调节阀对反应腔体匀压控制,使得反应腔体内气路分布均匀,提升工作气体稳定性和负压抽取的均匀性,提高沉积后的表面质量和均匀度;又由于该装置在反应腔体的腔体口设置了阻气镜片,在靠近腔体口的反应腔体两侧分别设置了保护气体入口和保护气体出口,保护气体将对阻气镜片下表面起到了保护作用,使得工作气体不会接触到阻气镜片下表面,避免在阻气镜片下表面形成阻档激光束进入反应腔体的金属膜,不仅可防止工作气体逃逸还保证阻气镜片的透光性。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 诱导 沉积 系统 光气 分离 装置 | ||
【主权项】:
一种激光诱导气相沉积系统的光气分离装置,包括:激光器、聚焦物镜和反应腔体,反应腔体下方放置有待镀膜产品,激光器发射的激光束透过聚焦物镜从反应腔体的腔体口射入反应腔体,激光束照射待镀膜产品表面时,将在待镀膜产品表面形成光气混合区,在其特征在于还包括:所述反应腔体的腔体口设置有阻气镜片;所述反应腔体的上部、靠近腔体口的位置,其两侧分别设置有保护气体入口和保护气体出口;所述反应腔体的中部,其两侧分别设置有工作气体入口;所述反应腔体的底部设置有均压环型槽,所述均压环型槽侧面设置有负压抽取口;平衡调节阀,所述平衡调节阀用于调节所述反应腔体内上下面的压力差。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的