[发明专利]一种多芯片并联电路瞬态电流和热分布不均匀度的测试方法有效

专利信息
申请号: 201711409290.5 申请日: 2017-12-22
公开(公告)号: CN108279369B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 苏洪源;赵发展;李晶;罗家俊;瞿磊;席茜 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01R31/28 分类号: G01R31/28
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供的一种多芯片并联电路瞬态电流和热分布不均匀度的测试方法,涉及功率器件技术领域,包括:采用第一小检测电流测试多芯片并联电路的第一体二极管结压降,进而通入第一脉宽tH的瞬态功率P=VH*IH;采用第二小检测电流测试多芯片并联电路的第二体二极管结压降;根据所述第一体二极管结压降和所述第二体二极管结压降获得△VF1;采用第三小检测电流测试多芯片并联电路的第三体二极管结压降,进而通入第一脉宽tH的瞬态功率P=VH*IH;采用第四小检测电流测试多芯片并联电路的第四体二极管结压降;根据所述第三体二极管结压降和所述第四体二极管结压降获得△VF2;根据所述△VF2和△VF1获得△VF,以此表征多芯片并联的瞬态电流及热分布不均匀程度。此方法解决现有技术中测试过程复杂,测试结果表征不明显,只能进行半定量的热分布不均匀度的判定,应用性差的技术问题。
搜索关键词: 一种 芯片 并联 电路 瞬态 电流 分布 不均匀 测试 方法
【主权项】:
1.一种多芯片并联电路瞬态电流和热分布不均匀度的测试方法,其特征在于,所述方法包括:采用第一小检测电流IM测试多芯片并联电路的第一体二极管结压降,进而通入第一脉宽tH的瞬态功率P=VH*IH;采用第二小检测电流IM测试多芯片并联电路的第二体二极管结压降,其中第二体二极管结压降小于第一体二极管结压降;根据所述第一体二极管结压降和所述第二体二极管结压降获得△VF1,其中,△VF1为所述第一体二极管结压降和所述第二体二极管结压降之差;采用第三小检测电流IM测试多芯片并联电路的第三体二极管结压降,进而通入第一脉宽tH的瞬态功率P=VH*IH;采用第四小检测电流IM测试多芯片并联电路的第四体二极管结压降,其中第四体二极管结压降小于第三体二极管结压降;根据所述第三体二极管结压降和所述第四体二极管结压降获得△VF2,其中,△VF2为所述第三体二极管结压降和所述第四体二极管结压降之差;根据所述△VF2和△VF1获得△VF,其中△VF=△VF2‑△VF1,其中,所述△VF表示所述多芯片并联电路瞬态电流和热分布的均匀度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711409290.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top