[发明专利]量子点表面配体、量子点薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201711351536.8 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN109928903A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 曹蔚然;杨一行;向超宇;钱磊;梁柱荣 | 申请（专利权）人： | TCL集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C07C323/52 | 分类号： | C07C323/52;C07C59/255;C07C69/54;C07C69/78;C07C69/732;C07C55/32;C07D239/42;C07D239/48;C07C217/84;C07C323/34;C09K11/88;C09K11/02;B82Y20/0 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 黄志云 |
| 地址： | 516006 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种量子点表面配体，包括如下结构式1‑4任一所示的化合物中的至少一种， |
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| 搜索关键词： | 量子点表面 量子点 配体 制备方法和应用 活性官能团 烃基衍生物 烃基 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种量子点表面配体，其特征在于，包括如下结构式1‑4任一所示的化合物中的至少一种，![]()
其中，R、R1、R1’、R2、R2’、R3、R3’、R4、R4’、R5、R5’单独选自烃基或烃基衍生物；X1、X1’、X2、X2’、X3、X3’为可与量子点结合的活性官能团。
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