[发明专利]两性离子化合物和包括其的光致抗蚀剂在审
| 申请号： | 201811397335.6 | 申请日： | 2018-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN109928904A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | E·阿卡德;J·F·卡梅伦;J·W·萨克莱 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C07C395/00 | 分类号： | C07C395/00;C07D345/00;G03F7/027;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了新型Te‑两性离子化合物，包含可用于极紫外光刻的光活性碲盐化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 两性离子化合物 光致抗蚀剂 极紫外光刻 光活性 可用 碲盐 | ||
【主权项】：
1.一种两性离子，其包括一个或多个Te原子。
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