[发明专利]一种量子点光刻胶及其制备方法有效
| 申请号： | 201710161279.5 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106957645B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 岳春波;宋志成;刘振国 | 申请（专利权）人： | 青岛海信电器股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/02 | 分类号： | C09K11/02;C09K11/88;G03F7/004 |
| 代理公司： | 11138 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 江崇玉 |
| 地址： | 266555 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种量子点材料、量子点光刻胶及其制备方法，属于量子点材料改性领域。该量子点材料包括：a)量子点核，b)包裹在量子点核外部的量子点壳，以及c)覆盖在量子点壳表面的表面配体，表面配体的通式为：HS‑(‑CH | ||
| 搜索关键词： | 一种 量子 材料 光刻 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种量子点光刻胶，包括量子点材料，所述量子点材料包括：/na)量子点核，/nb)包裹在所述量子点核外部的量子点壳，以及/nc)覆盖在所述量子点壳表面的表面配体，/n所述表面配体为烯丙基硫醇、2-巯基-1-甲基咪唑、糠基甲基硫醇、2-噻吩甲基硫醇或巯基-三聚乙二醇-丙炔基中的至少一种；/n所述量子点光刻胶包含以下质量百分比的组分：/n所述表面配体0.5％-3％，量子点1％-10％，其余为负性光刻胶基体；/n所述量子点包括：所述量子点核以及所述量子点壳。/n
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