[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置在审
| 申请号： | 201711320018.X | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108110060A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 张骥;姜涛;郭光龙;高锦成;惠官宝 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/417;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/28;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥市新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种薄膜晶体管，包括设置在衬底上的栅极、源极、漏极和有源层，所述源极和所述漏极均与所述有源层电连接，所述栅极、所述源极和所述漏极中的至少一者为吸光电极，所述吸光电极包括电极本体和吸光层，所述吸光层设置在所述电极本体的朝向所述有源层的一侧。相应地，本发明还提供一种薄膜晶体管的制作方法、阵列基板和显示装置。本发明能够减少有源层受到的光照，提高薄膜晶体管的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 源层 漏极 源极 电极本体 显示装置 阵列基板 吸光层 电极 吸光 电连接 衬底 制作 光照 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜晶体管，其特征在于，包括设置在衬底上的栅极、源极、漏极和有源层，所述源极和所述漏极均与所述有源层电连接，所述栅极、所述源极和所述漏极中的至少一者为吸光电极，所述吸光电极包括电极本体和吸光层，所述吸光层设置在所述电极本体的朝向所述有源层的一侧。
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