[发明专利]半导体元件在审

专利信息
申请号: 201711205591.6 申请日: 2017-11-27
公开(公告)号: CN108933138A 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 李建璋;蔡濬泽;杭孟琦 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体元件包含基板。半导体元件进一步包含第一多晶硅结构于基板之上。第一多晶硅结构具有第一晶粒尺寸。半导体元件进一步包含第一阻障层于第一多晶硅结构之上。第一多晶硅结构中至少一晶界接触第一阻障层。半导体元件进一步包含第二多晶硅结构于第一阻障层之上。第二多晶硅结构具有小于第一晶粒尺寸的第二晶粒尺寸。
搜索关键词: 多晶硅结构 半导体元件 晶粒 阻障层 基板 晶界
【主权项】:
1.一种半导体元件,其特征在于,包含:一基板;一第一多晶硅结构,于该基板之上,其中该第一多晶硅结构具有一第一晶粒尺寸;一第一阻障层,于该第一多晶硅结构之上,其中该第一多晶硅结构的至少一晶界接触该第一阻障层;以及一第二多晶硅结构,于该第一阻障层之上,其中该第二多晶硅结构具有小于该第一晶粒尺寸的一第二晶粒尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711205591.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top