[发明专利]一种抛光设备在审
| 申请号： | 201711049908.1 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN109719614A | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 三重野文健 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B57/02;B24B37/24;B24B37/34;B24B7/22 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 罗泳文 |
| 地址： | 201306 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光设备，包括：催化研磨垫，其表面包含有催化剂，并设置有可供激光通过的通孔；第一动力装置，为催化研磨垫提供周期往返平移运动的动力；晶圆固定盘，用于固定待研磨晶圆，使得待研磨晶圆与所述催化研磨垫接触；第二动力装置，连接于晶圆固定盘，为晶圆固定盘及待研磨晶圆提供旋转动力，并提供待研磨晶圆与催化研磨垫的压力；以及激光装置，通过催化研磨垫的通孔，对待研磨晶圆表面进行激光处理。通过在该抛光设备中增加激光装置，以及在催化研磨垫中增加可通过激光的通孔，通过激光对待研磨晶圆表面进行处理，产生微缺陷，该微缺陷可大大提高催化剂的催化反应，从而大大提高待研磨晶圆的研磨速率，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 晶圆 研磨垫 催化 抛光设备 固定盘 通孔 动力装置 激光装置 晶圆表面 激光 微缺陷 催化剂 催化反应 激光处理 生产效率 往返平移 旋转动力 | ||
【主权项】：
1.一种抛光设备，其特征在于，所述抛光设备包括：催化研磨垫，其表面包含有催化剂，所述催化研磨垫设置有可供激光通过的通孔；第一动力装置，连接于所述催化研磨垫，并为所述催化研磨垫提供平行于所述催化研磨垫平面的周期往返平移运动的动力；晶圆固定盘，用于固定待研磨晶圆，使得所述待研磨晶圆与所述催化研磨垫接触；第二动力装置，连接于所述晶圆固定盘，为所述晶圆固定盘及所述待研磨晶圆提供旋转动力，并提供所述待研磨晶圆与所述催化研磨垫的压力；以及激光装置，设置于所述催化研磨垫下方，通过所述催化研磨垫的通孔，对所述待研磨晶圆表面进行激光处理。
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