[发明专利]一种OLED器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710972251.X 申请日: 2017-10-18
公开(公告)号: CN107863457B 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 任泓扬;徐湘伦 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 潘中毅;熊贤卿
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种OLED器件及其制作方法,其中,制作方法包括:步骤S1,在阳极上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层以及第一阴极;步骤S2,在第一阴极上采用光刻形成对应发光层各个子像素、用于调节微腔效应的有机材料层;步骤S3,在所述有机材料层上蒸镀第二阴极。本发明在两层阴极之间采用对OLED材料没有影响的光刻工艺加入导电有机材料层,通过调整该层膜厚来增强微腔效应,该光刻工艺与制作CF和阳极的光刻工艺不同,不需要精细金属掩模版,从而节省了OLED制程工艺的时间和成本,增加了制作效率。
搜索关键词: 一种 oled 器件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种OLED器件的制作方法,其特征在于,包括:步骤S1,在阳极上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层以及第一阴极;步骤S2,在第一阴极上采用光刻形成对应发光层各个子像素、用于调节微腔效应的有机材料层;步骤S3,在所述有机材料层上蒸镀第二阴极;其中,所述步骤S2具体包括:步骤S21,在第一阴极上涂布一层可兼容有机材料的负性光刻胶;步骤S22,在对应发光层子像素的位置设置光掩膜版,利用所述光掩膜版对所述负性光刻胶进行曝光、显影;步骤S23,在所述负性光刻胶被显影液洗去的位置以及剩余的负性光刻胶上蒸镀一层用于调节微腔效应的有机材料层;步骤S24,剥离所述剩余的负性光刻胶及其上的有机材料层,获得对应所述发光层子像素的有机材料层;步骤S25,重复所述步骤S21‑S24直至获得对应发光层各个子像素的有机材料层。
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