[发明专利]一种OLED器件及其制作方法

权利要求书

1.一种OLED器件的制作方法，其特征在于，包括：

步骤S1，在阳极上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层以及第一阴极；

步骤S2，在第一阴极上采用光刻形成对应发光层各个子像素、用于调节微腔效应的有机材料层；

步骤S3，在所述有机材料层上蒸镀第二阴极；

其中，所述步骤S2具体包括：

步骤S21，在第一阴极上涂布一层可兼容有机材料的负性光刻胶；

步骤S22，在对应发光层子像素的位置设置光掩膜版，利用所述光掩膜版对所述负性光刻胶进行曝光、显影；

步骤S23，在所述负性光刻胶被显影液洗去的位置以及剩余的负性光刻胶上蒸镀一层用于调节微腔效应的有机材料层；

步骤S24，剥离所述剩余的负性光刻胶及其上的有机材料层，获得对应所述发光层子像素的有机材料层；

步骤S25，重复所述步骤S21-S24直至获得对应发光层各个子像素的有机材料层。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述负性光刻胶含有氟元素取代的碳链结构。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述负性光刻胶具有光敏组分，所述光敏组分含有卤素溶剂、光致产酸剂化合物、包含至少一个含氟基团的单体与包含至少一个可酸解含酯基团的单体的共聚物。

4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述卤素溶剂为氢化氟醚或分离的氢化氟醚，所述共聚物为无规共聚物。