[发明专利]掩模板及掩模板制作方法有效
| 申请号： | 201710890369.8 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107641786B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 林治明;黄俊杰;张健;白音必力;郝志元;辛小林;张德;刘旭;张新建 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种掩模板及掩模板制作方法，涉及显示技术领域。该掩模板包括多个掩膜单元，掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于蒸镀有效区周边按预设规则分布的多个焊接区，且位于掩模板边缘区域的掩膜单元与位于掩模板内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致。本公开不但可以帮助改善掩膜板中央区域掩膜单元的褶皱状态，另一方面还可以改善掩膜板边缘区域掩膜单元的褶皱状态，进而改善整个掩膜板的褶皱状态，进而提高掩膜板表面的平坦状态，从而提高蒸镀产品的质量及良率。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种掩模板，包括多个掩膜单元，其特征在于，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区周边按预设规则分布的多个焊接区，且位于所述掩模板边缘区域的所述掩膜单元与位于所述掩模板内部区域的所述掩膜单元的所述蒸镀有效区周边的焊接区分布一致。
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