[发明专利]掩模板及掩模板制作方法有效
| 申请号： | 201710890369.8 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107641786B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 林治明;黄俊杰;张健;白音必力;郝志元;辛小林;张德;刘旭;张新建 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模板 制作方法 | ||
1.一种掩模板，包括多个掩膜单元，其特征在于，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区周边按预设规则分布的多个焊接区，多个所述蒸镀有效区呈阵列排列，多个所述掩膜单元对应各所述蒸镀有效区呈阵列排列，多个所述掩膜单元形状、面积一致，所述掩膜单元形状为矩形，多个所述焊接区包括在每一所述掩膜单元的四角位置设置的焊接区；
其中，位于所述掩模板边缘区域的所述掩膜单元与位于所述掩模板内部区域的所述掩膜单元的所述蒸镀有效区周边的焊接区分布一致，以改善掩膜板边缘区域的掩模单元的蒸镀有效去的褶皱状态；
所述掩膜单元阵列包括多列，位于每列的首尾的掩膜单元与位于每列的内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致；在所述位于每列首尾的掩膜单元远离内部区域的掩膜单元的外侧还设有一个虚拟掩膜单元区域，多个所述焊接区还包括在所述虚拟掩膜单元区域靠近所述首尾的掩膜单元的相邻两角位置设置的焊接区；以及/或者
所述掩膜单元阵列包括多行，位于每行的首尾的掩膜单元与位于每行的内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致；在所述位于每行首尾的掩膜单元远离内部区域的掩膜单元的外侧还设有一个虚拟掩膜单元区域，多个所述焊接区还包括在所述虚拟掩膜单元区域靠近所述首尾的掩膜单元的相邻两角位置设置的焊接区。
2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述蒸镀有效区形状为圆形、椭圆形以及矩形中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括精细金属掩模板。
4.一种掩模板的制作方法，其特征在于，包括：
形成多个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区，多个所述蒸镀有效区呈阵列排列，多个所述掩膜单元对应各所述蒸镀有效区呈阵列排列，多个所述掩膜单元形状、面积一致，所述掩膜单元形状为矩形；
在所述蒸镀有效区周边按预设规则形成多个焊接区，多个所述焊接区包括在每一所述掩膜单元的四角位置设置的焊接区；
其中，位于所述掩模板边缘区域的掩膜单元与位于所述掩模板内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致，以改善掩膜板边缘区域的掩模单元的蒸镀有效去的褶皱状态；
所述掩膜单元阵列包括多列，位于每列的首尾的掩膜单元与位于每列的内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致；在所述位于每列首尾的掩膜单元远离内部区域的掩膜单元的外侧还设有一个虚拟掩膜单元区域，多个所述焊接区还包括在所述虚拟掩膜单元区域靠近所述首尾的掩膜单元的相邻两角位置设置的焊接区；以及/或者
所述掩膜单元阵列包括多行，位于每行的首尾的掩膜单元与位于每行的内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致；在所述位于每行首尾的掩膜单元远离内部区域的掩膜单元的外侧还设有一个虚拟掩膜单元区域，多个所述焊接区还包括在所述虚拟掩膜单元区域靠近所述首尾的掩膜单元的相邻两角位置设置的焊接区。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710890369.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种风力发电机鼓形齿式联轴器的热处理方法
- 下一篇：镀膜设备
- 同类专利
- 专利分类
