[发明专利]掩模板及掩模板制作方法

说明书

本公开涉及一种掩模板及掩模板制作方法，涉及显示技术领域。该掩模板包括多个掩膜单元，掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于蒸镀有效区周边按预设规则分布的多个焊接区，且位于掩模板边缘区域的掩膜单元与位于掩模板内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致。本公开不但可以帮助改善掩膜板中央区域掩膜单元的褶皱状态，另一方面还可以改善掩膜板边缘区域掩膜单元的褶皱状态，进而改善整个掩膜板的褶皱状态，进而提高掩膜板表面的平坦状态，从而提高蒸镀产品的质量及良率。

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板及掩模板制作方法。

背景技术

随着光学技术和半导体技术的发展，以液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)和有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)为代表的平板显示器具有轻薄、能耗低、反应速度快、色纯度佳、以及对比度高等特点，在显示领域占据了主导地位。其中在半导体制作流程中，光刻工艺是非常重要的一个环节，而光刻工艺主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。

在掩膜板制作工艺中，例如相关技术中涉及的精细金属掩膜(FMM，Fine MetalMask)模式，是通过蒸镀将有机发光二极管(OLED，Organic Light-Emitting Diode)材料按照预定程序蒸镀到低温多晶硅(LTPS，Low Temperature Poly-Silicon)背板上，即利用FMM上的图形将红绿蓝等有机发光材料蒸镀到规定位置上。但精细金属掩膜板(FMM Sheet)在拉伸后表面会产生褶皱，会影响蒸镀有效区的平坦状态，进而影响蒸镀产品的质量。

因此，有必要研究一种掩模板及掩模板制作方法，以改进掩模板在拉伸后的褶皱状态，进而提高蒸镀产品质量。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种掩模板及掩模板制作方法，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。

根据本公开的一个方面，提供一种掩模板，包括多个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区周边按预设规则分布的多个焊接区，且位于所述掩模板边缘区域的所述掩膜单元与位于所述掩模板内部区域的所述掩膜单元的所述蒸镀有效区周边的焊接区分布一致。

在本公开的一种示例性实施例中，多个所述蒸镀有效区呈阵列排列，多个所述掩膜单元对应各所述蒸镀有效区呈阵列排列。

在本公开的一种示例性实施例中，多个所述掩膜单元形状、面积一致。

在本公开的一种示例性实施例中，其中：所述掩膜单元阵列包括多列，位于每列的首尾的掩膜单元与位于每列的内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致；以及/或者所述掩膜单元阵列包括多行，位于每行的首尾的掩膜单元与位于每行的内部区域的掩膜单元的蒸镀有效区周边的焊接区分布一致。

在本公开的一种示例性实施例中，所述蒸镀有效区形状为圆形、椭圆形以及矩形中的一种或多种。

在本公开的一种示例性实施例中，所述掩膜单元形状为矩形。

在本公开的一种示例性实施例中，多个所述焊接区包括在每一所述掩膜单元的四角位置设置的焊接区。