[发明专利]BPS型阵列基板及其制作方法

摘要

本发明提供一种BPS型阵列基板及其制作方法。本发明的BPS型阵列基板的制作方法将黑色矩阵、主隔垫物、副隔垫物均设于阵列基板上并在同一制程中实现，能够缩减生产时间，降低生产成本，提高产品竞争力；利用色阻单元的厚度来实现主隔垫物与黑色矩阵的高度差，同时利用色阻单元的厚度并通过控制掩膜板的透光率来实现副隔垫物与黑色矩阵的高度差，使主隔垫物与副隔垫物的高度更易于控制；黑色遮光膜层上对应形成黑色矩阵的区域在曝光过程中对应的掩膜板区域为全透光区，曝光时受到的紫外线照射剂量充足，交联反应完全，因而稳定性较高，在显影过程中受到显影液的影响较小，不会被溶解，从而保证黑色矩阵的膜厚均匀性较好。

主权项

一种BPS型阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上制作薄膜晶体管阵列层(20)，在所述衬底基板(10)上形成覆盖薄膜晶体管阵列层(20)的保护层(30)；步骤S2、在所述保护层(30)上形成彩色光阻层(40)，所述彩色光阻层(40)包括呈阵列排布的数个色阻单元(41)，每个色阻单元(41)包括第一像素区(401)、第二像素区(402)及设于所述第一像素区(401)与第二像素区(402)之间的连接区(403)；步骤S3、在所述保护层(30)上形成覆盖所述彩色光阻层(40)的有机绝缘层(50)，在所述有机绝缘层(50)上沉积黑色遮光膜层(60)；在所述黑色遮光膜层(60)上定义出对应于多个色阻单元(41)的连接区(403)上方的多个主隔垫物图案(61)、对应于多个色阻单元(41)的连接区(403)上方的多个副隔垫物图案(62)、以及对应于所述数个色阻单元(41)之间的间隔区域与所述数个色阻单元(41)的外围区域上方的黑色矩阵图案(63)；步骤S4、采用一道掩膜板(70)对黑色遮光膜层(60)进行紫外线曝光；所述掩膜板(70)上设有对应于多个副隔垫物图案(62)的半透光区(71)以及对应于多个主隔垫物图案(61)与黑色矩阵图案(63)的全透光区(72)；步骤S5、对黑色遮光膜层(60)进行显影，得到对应于多个色阻单元(41)的连接区(403)上方的多个主隔垫物(81)、对应于多个色阻单元(41)的连接区(403)上方的多个副隔垫物(82)、以及对应于所述数个色阻单元(41)之间的间隔区域与所述数个色阻单元(41)的外围区域上方的黑色矩阵(83)；所述主隔垫物(81)的高度大于所述副隔垫物(82)的高度，所述副隔垫物(82)的高度大于所述黑色矩阵(83)的高度。