[发明专利]一种提高CMP形貌的金属冗余图形绘制方法在审
| 申请号： | 201710882923.8 | 申请日： | 2017-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107657115A | 公开（公告）日： | 2018-02-02 |
| 发明（设计）人： | 张美丽;张逸中;于世瑞 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种提高CMP形貌的金属冗余图形绘制方法，包括获取金属、通孔、和所有避让层的完整设计版图；通过版图逻辑运算绘制出允许添加金属冗余图形的不规则区域，对这些不规则区域分别作扩展成矩形区域；以每个允许添加区域的左下点为起点，添加固定尺寸和相对位置的金属冗余图形，形成等待后处理的金属冗余图形的临时图形；对金属冗余图形的临时图形进行后处理，包括禁止添加区域退边或删除、合并，短边延长、去除违反设计规则的小尺寸图形、过长图形截断等逻辑运算过程；以上后处理逻辑运算过程经过多次循环执行，经设计规则检查无误后得到最终的金属冗余图形版图。本发明能够更好的解决金属密度不足导致的表面均匀性差和平整度不良的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 cmp 形貌 金属 冗余 图形 绘制 方法 | ||
【主权项】：
一种提高CMP形貌的金属冗余图形绘制方法，其特征在于，包括下列步骤：获取金属、通孔、和所有避让层的完整设计版图；通过版图逻辑运算绘制出允许添加金属冗余图形的不规则区域，对这些不规则区域分别作扩展，把这些区域分别扩展成矩形区域；以每个允许添加区域的左下点为起点，开始添加固定尺寸和相对位置的金属冗余图形，添加完成形成等待后处理的金属冗余图形的临时图形；对金属冗余图形的临时图形进行后处理，包括禁止添加区域退边或删除、合并，短边延长、去除违反设计规则的小尺寸图形、过长图形截断等逻辑运算过程；将以上后处理逻辑运算过程经过多次循环执行，经设计规则检查无误后得到最终的金属冗余图形版图。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710882923.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
