[发明专利]CMOS图像传感器扇出型封装结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710795909.4 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN107634076A 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 陈彦亨;林正忠 申请(专利权)人: 中芯长电半导体(江阴)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 代理人: 余明伟
地址: 214437 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种CMOS图像传感器扇出型封装结构及其制备方法,所述CMOS图像传感器扇出型封装结构包括塑封材料层;导电结构,位于所述塑封材料层内,且上下贯穿所述塑封材料层;CMOS图像传感器芯片,正面设置有微棱镜及金属焊盘;所述CMOS图像传感器位于所述塑封材料层内;重新布线层,位于所述塑封材料层的第一表面,且位于所述微棱镜的外围,所述重新布线层与所述导电结构及所述金属焊盘相连接;透明基底,键合于所述重新布线层远离所述塑封材料层的表面。本发明的CMOS图像传感器扇出型封装结构具有结构简单、成本低等优点。
搜索关键词: cmos 图像传感器 扇出型 封装 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种CMOS图像传感器扇出型封装结构,其特征在于,所述CMOS图像传感器扇出型封装结构包括:塑封材料层,包括相对的第一表面及第二表面;导电结构,位于所述塑封材料层内,且上下贯穿所述塑封材料层;CMOS图像传感器芯片,正面设置有微棱镜及金属焊盘;所述CMOS图像传感器位于所述塑封材料层内,所述塑封材料层暴露出所述微棱镜的外表面及所述金属焊盘的外表面;重新布线层,位于所述塑封材料层的第一表面,且位于所述微棱镜的外围,所述重新布线层与所述导电结构及所述金属焊盘相连接;透明基底,键合于所述重新布线层远离所述塑封材料层的表面,以在所述透明基底与所述重新布线层之间形成密封空腔。
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