[发明专利]对基材进行湿处理的方法

摘要

本申请涉及对基材进行湿处理的方法。对结构进行湿处理的方法，该方法包括获得包括第一表面的结构，所述结构包括至少在第一端与第一表面固定并从其突出的特征件，其中，特征件的侧壁朝向第二表面并与其间隔开间隙g；对结构进行湿处理，之后对结构进行干燥，其中，进行湿处理包括将结构暴露于包含水的清洗液体对其进行清洗，以及之后将结构暴露于液体序列，其中序列的第一液体可与清洗液体混溶，序列的最后液体使得与第二表面和侧壁的接触角约为90°，其中，序列中的每个液体可与前面那个液体混溶，从而至少结构的第一表面在暴露于序列之前保持被清洗液体覆盖并且在暴露于序列的后面那个液体之前保持被序列的每个液体覆盖。

主权项

一种对结构进行湿处理的方法，所述方法包括：获得包含第一表面(5、5'、5)的结构(100、110、120、130、140、150)，该结构包括至少在第一端与所述第一表面(5、5'、5)固定并从其突出的特征件(10、11、30、40)，其中，特征件(100、110、120、130、140、150)的侧壁(6'、65、75)朝向第二表面(6、7、8)并与其间隔开间隙g，‑对所述结构进行湿处理，以及；‑之后，对所述结构进行干燥，其特征在于：进行湿处理包括：‑通过将所述结构(100、110、120、130、140、150)暴露于包含水的清洗液体对其进行清洗，以及；‑之后，将所述结构(100、110、120、130、140、150)暴露于液体序列，其中，所述序列的第一液体与所述清洗液体是可混溶的，以及所述序列的最后液体与所述第二表面(6、7、8)和所述侧壁的接触角约为90°，其中，所述序列中的每个液体与前面那个液体是可混溶的，从而至少所述结构的第一表面在暴露于所述序列之前保持被所述清洗液体覆盖并且在暴露于所述序列的后续液体之前保持被所述序列的每个液体覆盖。