[发明专利]制造影像感测器的方法在审

专利信息
申请号: 201710646919.1 申请日: 2017-08-01
公开(公告)号: CN108962922A 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 吴正一;林群智;蔡建欣;林明辉;张文山;林艺民;张朝钦;陈志轩;李锦思;蔡育廷 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种制造影像感测器的方法,包括沉积第一介电层于基板上,去除第一介电层的一部分以形成沟槽,沉积导电层于第一介电层上和沟槽中,形成沿着导电层的顶表面和在导电层中的凹槽的侧壁和底表面的保护层,以及去除导电层的一部分以形成格子结构。对应于沟槽的凹槽是形成于导电层中。
搜索关键词: 介电层 影像感测器 导电层中 导电层 去除 沉积导电层 格子结构 保护层 顶表面 侧壁 基板 沉积 制造
【主权项】:
1.一种制造影像感测器的方法,其特征在于,包括:沉积一第一介电层于一基板上;去除该第一介电层的一部分以形成一沟槽;沉积一导电层于该第一介电层上和该沟槽中,其中对应于该沟槽的一凹槽是形成于该导电层中;形成沿着该导电层的一顶表面和在该导电层中的该凹槽的侧壁和底表面的一保护层;以及去除该导电层的一部分以形成一格子结构。
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