[发明专利]一种增强清洗效果的沉积系统及方法有效

专利信息
申请号: 201710636974.2 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN109321894B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 丁安邦;师帅涛;史小平;陈鹏;李春雷;兰云峰;王勇飞;王洪彪 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/50
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 陶金龙;张磊
地址: 100176 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种增强清洗效果的沉积系统及方法,沉积系统包括:反应腔室,内设有基座,基座上方设有喷淋头,喷淋头周围通过绝缘环与腔室上盖相连,喷淋头上方覆盖有绝缘板,基座周围设有约束环,约束环以内、喷淋头和基座之间空间区域为反应区域,约束环和腔室内壁之间空间区域为非反应区域;初级清扫通道,用于对反应区域通入清扫气体进行清扫;次级清扫通道,用于对非反应区域通入清扫气体进行清扫。本发明能够增加对非反应区域的清扫程度,减少副反应生成物在非反应区域壁上的沉积,并阻挡微粒在腔室上盖与绝缘环之间的间隙内积累形成微粒源,从而能保证工艺性能的稳定性,提高等离子体源对死区的清洗效果。
搜索关键词: 一种 增强 清洗 效果 沉积 系统 方法
【主权项】:
1.一种增强清洗效果的沉积系统,其特征在于,包括:反应腔室,内设有基座,所述基座上方设有喷淋头,所述喷淋头周围通过绝缘环与腔室上盖相连,所述喷淋头上方覆盖有绝缘板,所述基座周围设有约束环,所述约束环以内、所述喷淋头和所述基座之间空间区域为反应区域,所述约束环和腔室内壁之间空间区域为非反应区域;初级清扫通道,用于对所述反应区域通入清扫气体进行清扫;次级清扫通道,用于对所述非反应区域通入清扫气体进行清扫。
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