[发明专利]一种增强清洗效果的沉积系统及方法有效
申请号: | 201710636974.2 | 申请日: | 2017-07-31 |
公开(公告)号: | CN109321894B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 丁安邦;师帅涛;史小平;陈鹏;李春雷;兰云峰;王勇飞;王洪彪 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龙;张磊 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种增强清洗效果的沉积系统及方法,沉积系统包括:反应腔室,内设有基座,基座上方设有喷淋头,喷淋头周围通过绝缘环与腔室上盖相连,喷淋头上方覆盖有绝缘板,基座周围设有约束环,约束环以内、喷淋头和基座之间空间区域为反应区域,约束环和腔室内壁之间空间区域为非反应区域;初级清扫通道,用于对反应区域通入清扫气体进行清扫;次级清扫通道,用于对非反应区域通入清扫气体进行清扫。本发明能够增加对非反应区域的清扫程度,减少副反应生成物在非反应区域壁上的沉积,并阻挡微粒在腔室上盖与绝缘环之间的间隙内积累形成微粒源,从而能保证工艺性能的稳定性,提高等离子体源对死区的清洗效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 增强 清洗 效果 沉积 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种增强清洗效果的沉积系统,其特征在于,包括:反应腔室,内设有基座,所述基座上方设有喷淋头,所述喷淋头周围通过绝缘环与腔室上盖相连,所述喷淋头上方覆盖有绝缘板,所述基座周围设有约束环,所述约束环以内、所述喷淋头和所述基座之间空间区域为反应区域,所述约束环和腔室内壁之间空间区域为非反应区域;初级清扫通道,用于对所述反应区域通入清扫气体进行清扫;次级清扫通道,用于对所述非反应区域通入清扫气体进行清扫。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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