[发明专利]扫描对准装置及其扫描方法有效
申请号: | 201710582793.6 | 申请日: | 2017-07-17 |
公开(公告)号: | CN109273380B | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 于大维;王诗华;黄栋梁 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/68 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种扫描对准装置及其扫描方法,所述扫描对准装置包括一个半透半反镜、一组成像元件、第一对准镜组、第二对准镜组和一个透镜。入射光束经所述一个透镜的透射后转变为单一的连续光束并照射至所述一个半透半反镜;所述一个半透半反镜用于将入射至的连续光束反射后照射至基底;所述第一对准镜组和所述第二对准镜组用于将经过其的光束透射为多路子光束;所述一组成像元件用于根据所述多路子光束获取所述基底的图像。本发明提供一种扫描对准装置及其扫描对准方法,使扫描效率得到了提高,进而提升了产品的生产效率,提高了产品的产出率。 | ||
搜索关键词: | 扫描 对准 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种扫描对准装置,其特征在,包括一半透半反镜组、一成像元件组、一对准镜组和一个照明镜组,所述对准镜组包括多个子对准镜组,所述成像元件组包括多个子成像元件,且多个所述子对准镜组和多个所述子成像元件组一一对应;所述半透半反镜组包括一个或多个子半透半反镜组,所述照明镜组包括一个或多个子照明镜组。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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