[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶显示面板

摘要

本发明公开一种阵列基板及其制造方法、液晶显示面板。本发明设计在TFT的有源层上形成一非晶硅层，相当于在沟道上形成一保护层，在刻蚀形成源极图案和漏极图案的过程中，该非晶硅层能够阻挡刻蚀液与有源层接触，从而能够避免损伤沟道，确保沟道的电学性能。

主权项

一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上依次形成栅极图案和绝缘层；在所述绝缘层上依次形成有源层、非晶硅层、金属层及光阻层；采用Half‑tone(半色调)光罩对所述光阻层曝光显影，形成第一光阻区域和位于第一光阻区域两侧的第二光阻区域，所述第一光阻区域的厚度小于所述第二光阻区域的厚度；刻蚀去除未被所述第一光阻区域和第二光阻区域遮盖的有源层、非晶硅层及金属层；对所述第一光阻区域和第二光阻区域进行灰化处理，以去除所述第一光阻区域，并保留部分第二光阻区域；刻蚀去除未被所述部分第二光阻区域覆盖的金属层，形成源极图案和漏极图案；去除所述部分第二光阻区域；在所述绝缘层上形成覆盖所述源极图案和漏极图案的平坦层，所述平坦层开设有暴露所述漏极图案表面的接触孔；在所述平坦层上形成电极图案，使得所述电极图案可通过所述接触孔与所述漏极图案电连接。