[发明专利]一种柔性基板原子氧防护层的生产线有效
申请号: | 201710561510.X | 申请日: | 2017-07-11 |
公开(公告)号: | CN109244159B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 谷红宇;齐振一;宋力昕;张锦麟;张涛 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | H01L31/041 | 分类号: | H01L31/041;H01L31/18;H01L21/66;G01B11/24 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 姚佳雯;邹蕴 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种柔性基板原子氧防护层的生产线,具备:用于固定安装柔性基板的固定安装预备系统;用于清洗并烘干的清洗烘干处理系统;用于进行活化预处理的活化处理系统;用于进行硅烷化处理的硅烷化处理系统;用于稳定化处理的稳定化处理系统;用于检测的自主检测系统;用于对废液进行回收处理的废液回收系统;用于在各系统间传动柔性基板的传动系统;和用于控制动作的控制系统;各系统间采用线性排列。根据本发明,能以自动化的方式流水线作业,生产出的柔性基板原子氧防护层产品具有产品大面积均匀性好、批次稳定性好、成品率高,防原子氧效果显著等优点,适合于柔性基板原子氧防护层的生产使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 原子 防护 生产线 | ||
【主权项】:
1.一种柔性基板原子氧防护层的生产线,具备:用于固定安装所述柔性基板,并将其送入预备工位的固定安装预备系统;用于清洗并烘干所述柔性基板表面的清洗烘干处理系统;用于对所述柔性基板的表面层进行活化预处理的活化处理系统;用于对经活化处理后的所述柔性基板的表面层进行硅烷化处理的硅烷化处理系统;用于对硅烷化处理后的所述柔性基板进行稳定化处理的稳定化处理系统;用于对处理后的所述柔性基板进行检测的自主检测系统;用于对生产过程中的各种废液进行回收处理的废液回收系统;用于在各系统间传动所述柔性基板的传动系统;和用于控制所述各系统及所述柔性基板动作的控制系统;所述各系统间采用线性排列。
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- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的