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[发明专利]基于表面改性氟塑料薄膜的二次表面镜及其制备方法和应用-CN202211564158.2有效
发明人： 谷红宇;章俞之;杨琦;张锦麟;吕少波;马佳玉;耿利寅;赵啟伟;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所;北京空间飞行器总体设计部
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C08L27/12 文献下载
摘要：本发明涉及基于表面改性氟塑料薄膜的二次表面镜及其制备方法和应用。所述基于表面改性氟塑料薄膜的二次表面镜包括：氟塑料薄膜和防静电层，以及分布在氟塑料薄膜和防静电层之间的改性层；所述改性层包含C、O、Si，以及Ti、Zn、Ce、Fe中的一种或多种元素组成；优选包含Si‑O‑Si、Si‑O‑Ti、Ti‑O‑Ti、Si‑O‑Zn、Zn‑O‑Zn中至少一种骨架构成的有机‑无机杂化材料。
基于表面改性氟塑料薄膜二次及其制备方法应用

[实用新型]一种硅烷试剂储存装置及硅烷化处理设备-CN202321286631.5有效
发明人：张锦麟;谷红宇;吕少波;齐振一;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2023-05-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B65D81/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种硅烷试剂储存装置及硅烷化处理设备，其中硅烷试剂储存装置包括罐体和两个气动隔膜泵，罐体内部中空，且罐体的顶部对应密封固定密封盖，罐体的底部设置有进液管和出液管，两个气动隔膜泵分别与进液管和出液管连通，以控制所述罐体内的硅烷试剂的总量，另外密封盖上设置有充气装置和排气装置，排气装置在气动隔膜泵向罐体内充入硅烷试剂保持开启，并在罐体内的硅烷试剂达到预定量时关闭，充气装置用于在罐体内的硅烷试剂达到预定量时向罐体内充入惰性气体，使硅烷试剂与密封盖之间能够充满惰性气体，且使所述罐体内的压力达到预设压力，有效解决了现有技术中大量高温的硅烷试剂无法及时进行长时间储存的问题。
一种硅烷试剂储存装置处理设备

[发明专利]聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用-CN202211564823.8有效
发明人： 谷红宇;吕少波;张锦麟;章俞之;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明涉及聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用。所述聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层包含C、O、Si，以及Ti、Zn、Ce、Fe中的一种或多种元素组成；优选包含Si‑O‑Si、Si‑O‑Ti、Ti‑O‑Ti、Si‑O‑Zn、Zn‑O‑Zn中至少一种骨架构成的有机‑无机杂化材料。
聚合物表面抗原紫外改性及其制备方法应用

[发明专利]一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法与应用-CN202210207848.6在审
发明人： 谷红宇;唐登航;章俞之;张锦麟;吕少波;马佳玉;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法与应用。所述抗原子氧水滑石涂层包括：形成在聚合物基体表面的由水滑石纳米片或类水滑石纳米片中至少一种和硅烷偶联剂交联形成的多孔涂层。与目前常规致密的抗原子氧涂层不同，本发明所涉及的涂层由防护单元水滑石或类水滑石纳米片与氨烃基硅烷偶联剂共同构成，具有纳米片取向高度一致的叠层排列形成的非致密微纳结构，可以防止内应力作用而开裂；同时交联剂氨烃基硅烷偶联剂能增强涂层与基体间的界面附着力，防止剥脱现象的发生。该涂层主体为无机水滑石或类水滑石纳米片层，原料价格低廉、工艺简捷、操作方便，且抗原子氧/防剥落开裂性能优异，可广泛应用于航天领域。
一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法应用

[发明专利]一种硅烷化处理装置-CN202310597910.1在审
发明人：张锦麟;谷红宇;吕少波;齐振一;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2023-05-25 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅烷化处理装置，包括壳体和至少两个导液管，其中壳体的内部开设有反应槽，反应槽用于放置待硅烷化处理样件和硅烷试剂，使待硅烷化处理样件浸泡于硅烷试剂内，壳体内还设置有若干加热板，加热板均对应分布于反应槽外的两侧，导液管均设置于反应槽内对应待硅烷化处理样件的两侧，导液管上均开设有若干导液孔，导液管通过软管连接，软管上还连通有动力泵，若干导液管、软管与反应槽形成闭环管路，使得硅烷试剂能够在动力泵的驱动下于闭环管路内以预定流速进行循环流动，本发明解决了现有技术中处理样品的硅烷化效果不佳的问题，有效提升了产品硅烷化的良品率，为后续的已硅烷化处理的产品的使用提供有效保障。
一种硅烷处理装置

[发明专利]基于水滑石涂层改性聚合物的二次表面镜及其制备方法与应用-CN202210207847.1在审
发明人： 谷红宇;章俞之;杨琦;吕少波;张锦麟;马佳玉;耿利寅;赵啟伟;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所;北京空间飞行器总体设计部
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C08J7/06 文献下载
摘要：本发明涉及基于水滑石涂层改性聚合物的二次表面镜及其制备方法与应用。所述基于水滑石涂层改性聚合物的二次表面镜包括：聚合物基体和防静电层，以及分布在聚合物基体和防静电层之间的水滑石改性层；所述水滑石改性层包含由水滑石纳米片或类水滑石纳米片中至少一种和硅烷偶联剂交联形成的多孔涂层；优选地，硅烷偶联剂能够与聚合物基体或水滑石涂层反应键合，比如所述聚合物基体为含有羟基、羧基的聚合物基体或可改性生成羟基、羧基的聚合物基体，所述硅烷偶联剂为具有氨基的氨烃基硅烷。
基于滑石涂层改性聚合物二次表面及其制备方法应用

[发明专利]一种薄膜硅烷化表面改性系统-CN202310598021.7在审
发明人：吕少波;谷红宇;王枫;郑刚;张锦麟;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2023-05-25 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C08J7/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄膜硅烷化表面改性系统，包括薄膜固定装置、薄膜硅烷化处理装置和薄膜热处理装置，其中薄膜固定装置包括固定框，固定框的内框上设置有若干夹持组件，夹持组件用于将待处理薄膜固定并延展于固定框上，薄膜硅烷化处理装置包括第一壳体，第一壳体开设有第一容纳腔，第一容纳腔内设置有反应容器，反应容器内开设有反应槽，反应槽内充满硅烷试剂，反应容器上对应反应槽的两侧还设置有第一加热装置，反应槽与固定框相匹配，使待处理薄膜可通过固定框在反应容器内展开并进行硅烷化处理，薄膜热处理装置，用于加热烘干处理已硅烷化处理的待处理薄膜，解决了现有技术中薄膜硅烷化表面改性系统无法处理大尺寸的薄膜的问题。
一种薄膜硅烷表面改性系统

[发明专利]一种紫外辐照表面改性装置-CN202310598123.9在审
发明人： 谷红宇;张锦麟;吕少波;齐振一;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2023-05-25 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B29C71/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种紫外辐照表面改性装置，包括箱体，箱体内部开设有若干放置腔，放置腔内均设置有样品台和辐照灯阵，样品台用于承载待辐照基材，辐照灯阵均朝向样品台发射紫外光，且对应待辐照基材的不同辐照范围，另外放置腔内还设置有气氛调节装置和换热器，气氛调节装置用于控制放置腔内的臭氧或氧气等气氛浓度，换热器用于调整放置腔内的温度，使放置腔内的辐照环境气氛可根据待辐照基材进行调整。本发明能够适用不同辐照范围需求的待辐照基材，同时通过气氛调节装置和换热器对放置腔内的辐照环境气氛给予有效控制，从而为待辐照基材的紫外表面活化或稳定化等处理提供了稳定的环境，进而有效提高待辐照基材表面活化或稳定化等处理的稳定性和均匀性。
一种紫外辐照表面改性装置

[发明专利]一种抗原子氧/防静电的有机硅烷/还原氧化石墨烯复合表面改性薄膜及其制备方法-CN202111493332.4在审
发明人： 谷红宇;宋力昕;李昊耕;章俞之;吕少波 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种抗原子氧/防静电的有机硅烷/还原氧化石墨烯复合表面改性薄膜及其制备方法。所述抗原子氧/防静电的有机硅烷/还原氧化石墨烯复合表面改性薄膜包括：聚合物基体、以及形成在聚合物基体表面的有机硅烷和还原氧化石墨烯混合层；其中，有机硅烷同时与聚合物基体和还原氧化石墨烯发生键合反应。
一种抗原静电有机硅烷还原氧化石墨复合表面改性薄膜及其制备方法

[发明专利]一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法-CN202210207875.3有效
发明人： 谷红宇;唐登航;章俞之;吕少波;张锦麟;马佳玉;李昊耕;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法。所述抗原子氧微纳多孔涂层包括：形成在聚合物基体表面的由纳米氧化物颗粒和硅烷偶联剂粘结形成的多孔微纳结构涂层；所述硅烷偶联剂为具有氨基的硅烷偶联剂；所述聚合物基体为具有羧基的改性聚合物基体。本发明所涉及的涂层由无机氧化物纳米颗粒组成的骨架构成，为具有纳米孔隙的微纳结构，其柔韧性得到显著提高，防开裂性能优异，并且具备优异的抗原子氧侵蚀性能；同时，该涂层具有纳米骨架组成可替换的特点，可满足防原子氧涂层的增透、防静电等功能需求，而且其原料及制备价格低廉，易于实施操作，可广泛应用于航天领域中受原子氧侵蚀影响的低轨航天器。
一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法

[发明专利]一种有机材料表面原子氧防护层局部损伤后的修补方法-CN201911269437.4有效
发明人：宋力昕;谷红宇;张涛;吕少波;张锦麟 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B05D5/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种有机材料表面原子氧防护层局部损伤后的修补方法，将硅烷溶液涂覆在有机材料表面原子氧防护层的表面的损伤位置，然后在25～300℃下进行高温热处理以实现原子氧防护层的修补，所述原子氧防护层为含硅膜层；所述硅烷的化学式为(YR)nSiX4‑n，1≤n≤3，其中Y为能和有机材料反应的碳官能团，优选为不饱和异氰酸酯、氨基、环氧和氰基中的至少一种；X为能够和原子氧防护层反应键合的硅官能团，优选为烷氧基、卤基、酰氧基、硅醇和硅氢中的至少一种。
一种有机材料表面原子防护局部损伤修补方法

[发明专利]一种仿生非光滑耐磨涂层及其制备方法和应用-CN201911267963.7有效
发明人： 谷红宇;宋力昕;张锦麟;吕少波;张涛 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： C09D183/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种仿生非光滑耐磨涂层及其制备方法和应用，所述仿生非光滑耐磨涂层的制备方法为将含有多官能度有机硅的有机硅溶液涂覆在基底表面，再经过初步干燥处理、水解处理和固化处理，得到所述仿生非光滑耐磨表面；所述多官能度有机硅包含：三硅官能度有机硅和四硅官能度有机硅中的至少一种和二硅官能度有机硅。
一种仿生光滑耐磨涂层及其制备方法应用

[发明专利]一种有机硅耐磨涂层及其制备方法和应用-CN201911269457.1有效
发明人： 谷红宇;宋力昕;张涛;吕少波;张锦麟 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： C09D183/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种有机硅耐磨涂层及其制备方法和应用，所述有机硅耐磨涂层的制备方法包括：将含有多官能度有机硅的有机硅溶液涂覆在有机基材表面，然后在空气气氛中进行加热聚合反应，得到有机硅耐磨涂层；所述多官能度有机硅包含：三硅官能度有机硅和四硅官能度有机硅中的至少一种，以及二硅官能度有机硅。
一种有机硅耐磨涂层及其制备方法应用

[发明专利]一种空间环境多因素协同试验装置及测试方法-CN202111263287.3在审
发明人：章俞之;马佳玉;吴岭南;谷红宇;宋力昕 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种空间环境多因素协同试验装置，包括空间环境模拟系统(1)、真空辐照室(2)、紫外辐照强度测量系统(3)和控制系统(4)。本发明还提供一种如上所述的空间环境多因素协同试验装置的测试方法。本发明的空间环境多因素协同试验装置，集成度高，最多可进行原子氧辐照/近紫外辐照/远紫外辐照/温度循环/真空环境五种空间因素综合辐照协同试验，具有很好的灵活性；可实现对综合辐照试验中原子氧束流密度及均匀性、近紫外辐照强度及均匀性、温度循环温度和真空模拟系统的真空度进行测量，保障综合辐照试验数据的准确性。
一种空间环境因素协同试验装置测试方法

[发明专利]一种柔性基板原子氧防护层的生产线-CN201710561510.X有效
发明人： 谷红宇;齐振一;宋力昕;张锦麟;张涛 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2017-07-11 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： H01L31/041 文献下载
摘要：本发明提供了一种柔性基板原子氧防护层的生产线，具备：用于固定安装柔性基板的固定安装预备系统；用于清洗并烘干的清洗烘干处理系统；用于进行活化预处理的活化处理系统；用于进行硅烷化处理的硅烷化处理系统；用于稳定化处理的稳定化处理系统；用于检测的自主检测系统；用于对废液进行回收处理的废液回收系统；用于在各系统间传动柔性基板的传动系统；和用于控制动作的控制系统；各系统间采用线性排列。根据本发明，能以自动化的方式流水线作业，生产出的柔性基板原子氧防护层产品具有产品大面积均匀性好、批次稳定性好、成品率高，防原子氧效果显著等优点，适合于柔性基板原子氧防护层的生产使用。
一种柔性原子防护生产线

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