[发明专利]一种含嵌入式背场结构的多结太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710550320.8 申请日: 2017-07-07
公开(公告)号: CN107403850B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 黄珊珊;张小宾;马涤非;毛明明;刘建庆;潘旭;张露;刘雪珍 申请(专利权)人: 中山德华芯片技术有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 冯炳辉
地址: 528437 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种含嵌入式背场结构的多结太阳能电池及其制备方法,包括一个p型衬底以及三个或三个以上串联设置的子电池,且在所有的子电池中至少有一个子电池为含嵌入式背场结构的GaInNAs子电池,该GaInNAs子电池包括由下至上按层状结构叠加的p型背场、非有意掺杂的GaInNAs基区、n型发射区、n型窗口层,所述非有意掺杂的GaInNAs基区在靠近p型背场方向含有嵌入式背场结构,该嵌入式背场结构为与p型背场所用材料及掺杂条件一致的圆柱阵列,该圆柱阵列为远离空间电荷区而无法被有效收集的少子提供势垒,将少子反射回空间电荷区,从而提高少子收集效率,进而提高短路电流密度和多结电池的光电转换效率。
搜索关键词: 一种 嵌入式 结构 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种含嵌入式背场结构的多结太阳能电池,其特征在于:包括一个p型衬底以及三个或三个以上串联设置的子电池,各子电池与相邻结构保持晶格匹配,各子电池之间用隧穿结连接,且在所有的子电池中至少有一个子电池为含嵌入式背场结构的GaInNAs子电池,该GaInNAs子电池包括由下至上按层状结构叠加的p型背场、非有意掺杂的GaInNAs基区、n型发射区、n型窗口层,其中,所述非有意掺杂的GaInNAs基区在靠近p型背场方向含有嵌入式背场结构,该嵌入式背场结构为与p型背场所用材料及掺杂条件一致的圆柱阵列,该圆柱阵列为远离空间电荷区而无法被有效收集的少子提供势垒,将少子反射回空间电荷区,从而提高少子收集效率。
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