[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质有效
申请号: | 201710532046.1 | 申请日: | 2017-07-03 |
公开(公告)号: | CN107579020B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 佐藤秀明 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。本发明根据使用完毕的磷酸水溶液中的硅浓度来使用再生单元。基板液处理装置(1)具有控制部(7)和通过处理液对基板(8)进行处理的液处理部(39)。所述控制部(7)根据在所述液处理部(39)中对所述基板(8)进行处理而从所述基板(8)溶出的溶出成分浓度,将从排出线(82)排出的所述处理液从所述再生线(90)切换到经过所述排出线(82)向外部进行废弃的废弃线(87)。 | ||
搜索关键词: | 基板液 处理 装置 方法 以及 存储 介质 | ||
【主权项】:
一种基板液处理装置,其特征在于,具备:液处理部,其收纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板,并且使用该处理液对所述基板进行处理;磷酸水溶液供给部,其用于向所述液处理部供给所述磷酸水溶液;排出线,其与所述液处理部连接来排出所述处理液;返回线,其以自如地切换与所述排出线的连接和断开的方式与所述排出线连接,所述返回线使所述处理液返回到所述液处理部;再生线,其以自如地切换与所述排出线的连接和断开的方式与所述排出线连接,所述再生线包括使所述处理液再生的再生单元;以及控制部,其中,所述控制部根据在所述液处理部中对所述基板进行处理而从所述基板溶出的溶出成分浓度将从所述排出线排出的所述处理液从所述再生线切换到经过所述排出线向外部废弃的废弃线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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