[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质

说明书

本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。本发明根据使用完毕的磷酸水溶液中的硅浓度来使用再生单元。基板液处理装置(1)具有控制部(7)和通过处理液对基板(8)进行处理的液处理部(39)。所述控制部(7)根据在所述液处理部(39)中对所述基板(8)进行处理而从所述基板(8)溶出的溶出成分浓度，将从排出线(82)排出的所述处理液从所述再生线(90)切换到经过所述排出线(82)向外部进行废弃的废弃线(87)。

技术领域

本发明涉及一种利用处理液对基板进行液处理的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。

背景技术

在制造半导体器件、平板显示器等时，使用基板液处理装置利用蚀刻液等处理液对半导体晶圆、液晶基板等基板实施蚀刻等处理。

例如，在专利文献1所公开的基板液处理装置中，进行如下处理：使基板浸在处理槽内贮存的处理液(蚀刻液：磷酸水溶液)中，来对形成于基板的表面的氮化硅膜进行蚀刻。

另外，以往以来，作为处理液使用的磷酸水溶液中包含由于蚀刻处理而溶出的硅，使用完毕的磷酸水溶液被输送到再生单元来去除所含有的硅。通过这样，使用完毕的磷酸水溶液在再生单元中被去除硅而再生，并再次返回到处理槽以被再次使用。

然而，以往以来，使用完毕的磷酸水溶液不论硅浓度多少都被输送到再生单元。

在将不能够进行硅去除的磷酸水溶液或者进行硅去除需要时间的磷酸水溶液输送到再生单元的情况下，在再生单元内或配管线上生成结晶等而使再生单元的内部构造发生故障。

专利文献1：日本特开2013-93478号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明是考虑到这种情况而完成的，其目的在于提供一种根据使用完毕的磷酸水溶液的硅浓度来使用再生单元由此能够高效地使用再生单元的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。

用于解决问题的方案

本发明是一种基板液处理装置，其特征在于，具备：液处理部，其收纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板，并且使用该处理液对所述基板进行处理；磷酸水溶液供给部，其用于向所述液处理部供给所述磷酸水溶液；排出线，其与所述液处理部连接来排出所述处理液；返回线，其以自如地切换与所述排出线的连接和断开的方式与所述排出线连接，所述返回线使所述处理液返回到所述液处理部；再生线，其以自如地切换与所述排出线的连接和断开的方式与所述排出线连接，所述再生线包括使所述处理液再生的再生单元；以及控制部，其中，所述控制部根据在所述液处理部中对所述基板进行处理而从所述基板溶出的溶出成分浓度将从所述排出线排出的所述处理液从所述再生线切换到经过所述排出线向外部废弃的废弃线。

本发明是一种基板液处理方法，其特征在于，具备以下步骤：通过含有磷酸水溶液的处理液在液处理部中对基板进行处理的步骤；从磷酸水溶液供给部向所述液处理部供给所述磷酸水溶液的步骤；将所述液处理部内的所述处理液从排出线排出的步骤；通过返回线使所述处理液返回到所述液处理部的步骤，所述返回线以自如地切换与所述排出线的连接和断开的方式与所述排出线连接；以及通过再生线使所述处理液再生的步骤，所述再生线以自如地切换与所述排出线的连接和断开的方式与所述排出线连接，所述再生线包括使所述处理液再生的再生单元，其中，控制部根据在所述液处理部中对所述基板进行处理而从所述基板溶出的溶出成分浓度将从所述排出线排出的所述处理液从所述再生线切换到经过所述排出线向外部废弃的废弃线。