[发明专利]一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法有效
| 申请号： | 201710515223.5 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109207934B | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 杨勇;马云峰;杨莉莉;魏玉全;刘学建;黄政仁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/10;C23C14/08 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法，在真空镀膜过程中使用经预熔制得的石英镀膜材料进行镀膜；将石英素坯先在700～800℃下预熔120～150分钟，再于1000～1200℃下煅烧120～180分钟，得到所述石英镀膜材料。本发明的特点是，相较于之前使用的石英颗粒膜料，这种石英环光学镀膜材料的使用有效地抑制了镀膜过程SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 采用 石英 光学 镀膜 材料 改善 高反膜微 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
1.一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法，其特征在于，在真空镀膜过程中使用经预熔制得的石英镀膜材料进行镀膜；将石英素坯先在700～800℃下预熔120～150分钟，再于1000～1200℃下煅烧120～180分钟，得到所述石英镀膜材料。
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