[发明专利]在脉冲激光退火中使用红外干涉技术的熔化深度测定在审
申请号: | 201710486531.X | 申请日: | 2013-05-30 |
公开(公告)号: | CN107421455A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 继平·李 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;H01L21/67 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金国,赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供用于在脉冲激光熔化期间测量基板熔化深度的方法和设备。所述设备可包括热源、其中形成有开口的基板支撑件及干涉仪,所述干涉仪被安置成将相干辐射导向所述基板支撑件。所述方法可包括将具有第一表面的基板安置在热处理腔室内、使用热源加热所述第一表面的一部分、将红外光谱辐射引导至部分反射镜以产生对照辐射和干涉辐射、将所述干涉辐射引导至熔化表面并将所述对照辐射引导至对照表面及测量反射的辐射之间的干涉。干涉条纹图案能用于测定熔化工艺期间的精确熔化深度。 | ||
搜索关键词: | 脉冲 激光 退火 使用 红外 干涉 技术 熔化 深度 测定 | ||
【主权项】:
一种用于处理基板的设备,包括:热源;基板支撑件,所述基板支撑件具有面向所述热源的基板接触表面、与所述基板接触表面相对的背面以及形成在所述基板支撑件中的一或多个开口;及一或多个干涉仪,所述一或多个干涉仪被安置成用于将相干辐射导向所述背面并穿过所述一或多个开口,其中所述干涉仪包括:相干辐射源;部分反射镜;及辐射传感器。
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