[发明专利]在脉冲激光退火中使用红外干涉技术的熔化深度测定

权利要求书

1.一种用于处理基板的设备，包括：

热源；

基板支撑件，所述基板支撑件具有面向所述热源的基板接触表面、与所述基板接触表面相对的背面以及形成在所述基板支撑件中的一或多个开口；及

一或多个干涉仪，所述一或多个干涉仪被安置成用于将相干辐射导向所述背面并穿过所述一或多个开口，其中所述干涉仪包括：

相干辐射源；

部分反射镜；及

辐射传感器。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述一或多个开口中的至少一个开口包含透镜，并且其中所述相干辐射穿透所述透镜。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述相干辐射源相对于所述热源是固定的。

4.如权利要求1所述的设备，进一步包括光选择性阻挡件，所述光选择性阻挡件在所述一或多个干涉仪的每个干涉仪与所述基板支撑件之间。

5.如权利要求1所述的设备，进一步包括多个开口，其中所述一或多个干涉仪中的至少一个干涉仪安置在所述多个开口的每个开口处。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述基板支撑件包含开口，所述开口内形成有窗。

7.如权利要求1所述的设备，其中所述热源是激光器。

8.如权利要求1所述的设备，其中所述热源是固定式的。

9.一种用于处理基板的设备，包括：

激光器；

基板支撑件，所述基板支撑件具有面向所述激光器的基板接触表面、与所述基板接触表面相对的背面以及形成在所述基板支撑件中的开口；及

干涉仪，所述干涉仪包括：

辐射源，所述辐射源被安置成用于引导辐射穿过所述开口；

部分反射镜；及

辐射传感器。

10.如权利要求9所述的设备，其中所述干涉仪是移动式的。

11.如权利要求9所述的设备，进一步包括光选择性阻挡件，且其中所述光选择性阻挡件阻挡来自所述激光器的辐射。

12.如权利要求9所述的设备，其中所述辐射源是相干辐射源，且其中所述相干辐射源是红外辐射源。

13.如权利要求9所述的设备，其中所述干涉仪被安置在所述基板支撑件中。

14.一种用于处理基板的设备，包括：

热源；

基板支撑件，所述基板支撑件具有面向所述热源的基板接触表面、与所述基板接触表面相对的背面以及形成在所述基板支撑件中的开口；及

干涉仪，所述干涉仪包括：

宽谱光源，所述宽谱光源被安置成用于引导辐射穿过所述开口；

分光计；及

镜，所述镜将反射光引导至所述分光计。

15.如权利要求14所述的设备，进一步包括光选择性阻挡件，所述光选择性阻挡件在所述镜与所述分光计之间。