[发明专利]单晶硅生长用石英坩埚外埚体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710471254.5 申请日: 2017-06-20
公开(公告)号: CN109097826B 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 袁佳斌 申请(专利权)人: 常州博科浩纳知识产权服务有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B15/10;B28B1/20
代理公司: 常州市江海阳光知识产权代理有限公司 32214 代理人: 翁坚刚
地址: 213022 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种单晶硅生长用石英坩埚外埚体及其制备方法。所述的外埚体包括外筒部、埚底部和设置在埚底部内侧壁上的承载部。使用时,所述组合式石英坩埚的内筒体置于坩埚外埚体的承载部上,且坩埚内筒体的底部与承载部相互间密闭设置;并且所述坩埚内筒体的外侧壁与外筒部的内侧壁间隔距离,从而将坩埚外埚体分成晶体生长区和投料化料区两个区域。本发明结构简单,用于组合式石英坩埚后,使得组合式石英坩埚可分离杂质,能够实现投料、化料、晶体生长及分离杂质同时进行且高温持续工作时间长。
搜索关键词: 单晶硅 生长 石英 坩埚 外埚体 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种单晶硅生长用石英坩埚外埚体,所述石英坩埚外埚体为开口向上的石英烧结一体件;其特征在于:所述坩埚外埚体(1)包括外筒部(11)、埚底部(12)和设置在埚底部(12)上的承载部(13);所述外筒部(11)的底部与埚底部(12)的顶部相互连接;所述承载部(13)位于埚底部(12)的顶部边沿下方的内侧壁上,埚底部(12)的内侧壁的位于承载部(13)上方的部分即为埚底部(12)的内侧壁的上部,埚底部(12)的内侧壁的位于承载部(13)下方的部分即为埚底部(12)的内侧壁的下部。
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