[发明专利]掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法有效
| 申请号： | 201710432844.7 | 申请日： | 2017-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN107245693B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 田忠朋;陈一民;肖磊;武捷;高雪伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/22;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法，属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，掩膜本体具有镂空区域，遮挡部设置在掩膜本体上，且位于镂空区域的边缘，遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移，以改变镂空区域的实际镂空面积，实际镂空面积等于镂空区域的原始面积减去遮挡部遮挡镂空区域的面积。本申请解决了叠加在一起的多个膜层中会存在部分膜层出现边缘断裂和脱落的情况的问题，有效的防止膜层的边缘出现断裂和脱落的情况，本申请用于真空镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 组件 真空镀膜 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，所述掩膜本体具有镂空区域，所述遮挡部设置在所述掩膜本体上，且位于所述镂空区域的边缘，所述掩膜本体为由四个条状结构组成的第一环形结构，且所述四个条状结构中的至少一个条状结构上设置有所述遮挡部；所述遮挡部能够与所述掩膜本体发生相对位移，以改变所述镂空区域的实际镂空面积，所述实际镂空面积等于所述镂空区域的原始面积减去所述遮挡部遮挡所述镂空区域的面积。
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