[发明专利]掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法

说明书

本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法，属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，掩膜本体具有镂空区域，遮挡部设置在掩膜本体上，且位于镂空区域的边缘，遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移，以改变镂空区域的实际镂空面积，实际镂空面积等于镂空区域的原始面积减去遮挡部遮挡镂空区域的面积。本申请解决了叠加在一起的多个膜层中会存在部分膜层出现边缘断裂和脱落的情况的问题，有效的防止膜层的边缘出现断裂和脱落的情况，本申请用于真空镀膜。

技术领域

本申请涉及镀膜技术领域，特别涉及一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法。

背景技术

真空镀膜装置是镀膜技术领域较常用的一种沉积膜层的装置，真空镀膜装置包括：真空腔体、镀膜组件和掩膜组件，真空腔体中设置有用于放置衬底基板的承载面。

相关技术中，当需要在衬底基板上形成多个膜层时，工作人员可以首先将衬底基板放置在真空腔体中的承载面上，并将掩膜组件覆盖在衬底基板上。示例的，掩膜组件为环形结构，在将掩膜组件覆盖在衬底基板上后，衬底基板中暴露在该环形结构中的镂空区域(可以呈矩形)中的区域为衬底基板上的待成膜区域。之后，工作人员就可以控制镀膜组件在覆盖有掩膜组件的衬底基板上形成第一膜层，且由于掩膜组件的存在，第一膜层的形状和大小与环形结构的镂空区域的形状和大小相同。然后，工作人员可以控制镀膜组件在覆盖有掩膜组件的衬底基板上形成第二膜层，这个第二膜层的形状和大小也与环形结构的镂空区域的形状和大小相同，且第一膜层和第二膜层叠加在一起。

由于衬底基板上形成的各个膜层的材质不同，各个膜层的附着力和热膨胀系数均不相同，所以，叠加在一起的多个膜层中会存在部分膜层出现边缘断裂和脱落的情况。

发明内容

为了解决叠加在一起的多个膜层中会存在部分膜层出现边缘断裂和脱落的情况的问题，本申请提供了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种掩膜组件，所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，

所述掩膜本体具有镂空区域，所述遮挡部设置在所述掩膜本体上，且位于所述镂空区域的边缘，所述遮挡部能够与所述掩膜本体发生相对位移，以改变所述镂空区域的实际镂空面积，所述实际镂空面积等于所述镂空区域的原始面积减去所述遮挡部遮挡所述镂空区域的面积。

可选的，所述掩膜本体为由四个条状结构组成的第一环形结构，且所述四个条状结构中的至少一个条状结构上设置有所述遮挡部。

可选的，所述掩膜组件包括：四个所述遮挡部，所述四个条状结构中的每个条状结构上均设置有一个所述遮挡部。

可选的，所述四个遮挡部中的每个遮挡部均能够：沿靠近所述镂空区域的中心的方向移动，以及沿远离所述镂空区域的中心的方向移动，且所述四个遮挡部能够通过沿靠近所述镂空区域的中心的方向移动组成第二环形结构。

可选的，所述掩膜组件还包括：四个调节部，所述四个条状结构中的每个条状结构上设置有一个所述调节部，

设置在所述每个条状结构上的调节部用于控制设置在所述每个条状结构上的遮挡部移动。

可选的，所述每个条状结构上均设置有：贯穿所述每个条状结构的通孔，以及设置在所述每个条状结构表面的凹孔，

所述通孔与所述凹孔相交，且所述通孔的贯穿方向朝向所述镂空区域的中心，所述每个条状结构上设置的遮挡部设置在所述每个条状结构中的通孔中，所述每个条状结构上设置的调节部设置在所述每个条状结构中的凹孔中，且所述每个条状结构上设置的调节部与所述每个条状结构上设置的遮挡部相连接。

可选的，所述第一环形结构中靠近所述镂空区域的中心的第一表面，与所述第二环形结构中靠近所述镂空区域的中心的第二表面相距10毫米，所述第一表面和所述第二表面位于所述镂空区域的中心的同一个方向。