[发明专利]掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法

权利要求书

1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，

所述掩膜本体具有镂空区域，所述遮挡部设置在所述掩膜本体上，且位于所述镂空区域的边缘，所述掩膜本体为由四个条状结构组成的第一环形结构，且所述四个条状结构中的至少一个条状结构上设置有所述遮挡部；

所述遮挡部能够与所述掩膜本体发生相对位移，以改变所述镂空区域的实际镂空面积，所述实际镂空面积等于所述镂空区域的原始面积减去所述遮挡部遮挡所述镂空区域的面积。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，

所述掩膜组件包括：四个所述遮挡部，所述四个条状结构中的每个条状结构上均设置有一个所述遮挡部。

3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，

所述四个遮挡部中的每个遮挡部均能够：沿靠近所述镂空区域的中心的方向移动，以及沿远离所述镂空区域的中心的方向移动，且所述四个遮挡部能够通过沿靠近所述镂空区域的中心的方向移动组成第二环形结构。

4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件还包括：四个调节部，所述四个条状结构中的每个条状结构上设置有一个所述调节部，

设置在所述每个条状结构上的调节部用于控制设置在所述每个条状结构上的遮挡部移动。

5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述每个条状结构上均设置有：贯穿所述每个条状结构的通孔，以及设置在所述每个条状结构表面的凹孔，

所述通孔与所述凹孔相交，且所述通孔的贯穿方向朝向所述镂空区域的中心，所述每个条状结构上设置的遮挡部设置在所述每个条状结构中的通孔中，所述每个条状结构上设置的调节部设置在所述每个条状结构中的凹孔中，且所述每个条状结构上设置的调节部与所述每个条状结构上设置的遮挡部相连接。

6.根据权利要求5所述的掩膜组件，其特征在于，

所述第一环形结构中靠近所述镂空区域的中心的第一表面，与所述第二环形结构中靠近所述镂空区域的中心的第二表面相距10毫米，所述第一表面和所述第二表面位于所述镂空区域的中心的同一个方向。

7.一种真空镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜装置包括：真空腔体、镀膜组件和掩膜组件，

所述掩膜组件为权利要求1至6任一所述的掩膜组件。

8.一种真空镀膜装置的使用方法，其特征在于，所述真空镀膜装置为权利要求7所述的真空镀膜装置，所述方法包括：

将衬底基板置于真空腔体内的承载面上；

将掩膜组件覆盖在所述衬底基板上；

控制所述掩膜组件中的遮挡部移动，使得所述遮挡部与所述掩膜组件中的掩膜本体发生相对位移，所述镂空区域的实际镂空面积为第一面积；

控制镀膜组件在覆盖有所述掩膜组件的所述衬底基板上形成第一膜层；

控制所述遮挡部再次移动，使得所述遮挡部与所述掩膜本体再次发生相对位移，所述镂空区域的实际镂空面积为第二面积，所述第一面积小于所述第二面积；

控制所述镀膜组件在覆盖有所述掩膜组件的所述衬底基板上形成第二膜层，所述第二膜层与所述第一膜层叠加，且所述第二膜层的边缘和所述第一膜层的边缘均与所述衬底基板相接触。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述掩膜本体为由四个条状结构组成的第一环形结构，所述四个条状结构中的每个条状结构上均设置有一个所述遮挡部，所述控制所述遮挡部再次移动，包括：

控制每个所述遮挡部沿远离所述镂空区域的中心的方向移动2毫米。